热舟蒸发laf 薄膜的紫外性能研究! - 物理学报.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 * % #$$’ % ， ， ， HW9 +* VW + % L0XB; #$$’ （ ） !$$$6%#($F#$$’F* $% F !(3!6$* JRSJ QTUKIRJ KIVIRJ !#$$’ R;8 + Q;Y: + KWB + 热舟蒸发!#$ 薄膜的紫外性能研究! ） ） ） ） ! # # ! 尚淑珍 邵建达 范正修 赵祖欣 !）（华东理工大学机械与动力工程学院，上海 #$$#% ） # ）（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 #$!’$$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #$$ !$ !( #$$ !# !$ 研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响，沉积温度从#$$)上升到%*$) ，间隔为*$) + 采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截 止波长的计算 采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定，采用 射线衍射（ ）方法测量了不同沉 + , ,-. 积温度下样品的微结构+ 发现在短波长波段，随着沉积温度的升高，光学损耗增加，晶粒尺寸增大，表面粗糙度略有 增加 不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起 随着沉积温度的升高， + + 折射率与消光系数增大，带隙变小，相对应的截止波长向长波方向移动+ 关键词：光学薄膜，沉积温度， ，光学损耗 /01% ： ， ， %’’ ’!!*2 ’#$ ’!3$ 从#$$ )上升到%*$ ) ，间隔为*$ ) + 测量了样品的 !E 引 言 透射率和反射率光谱曲线，标定了样品的表面形貌 和表面粗糙度，同时在此基础上进行了光学损耗的 在深紫外 真空紫外（ ）波段 材料 F .GHFHGH /01% 计算分析+ 进行了不同工艺条件下的光学常数计算， 是最主要的高折射率薄膜材料，很多研究人员对该 并对带隙及相应的截止波长进行了拟合 另外测量 + 材料采用不同的沉积方法进行了研究，包括热蒸发 了不同沉积温度下样品的微结构 研究的目的是对