纳米阵列电极研究进展.PDF

第 19 卷 　第 5 期 大 学 化 学 2004 年 10 月 今 日化学 纳米阵列电极研究进展 赵燕 　张亚利 (青岛大学化工学院　青岛 26607 1) 焦奎 (青岛科技大学 　青岛 266042) 　　摘要 　从纳米阵列电极的制作 、基本原理和应用 3 方面综述了纳米阵列电极的研究进展 。着 重阐述了模板法和自组装法制作纳米阵列电极的具体过程以及纳米阵列电极的扩散电流理论 ,对 纳米阵列电极在生物传感器 、电化学动力学 、电化学分析等方面的应用作了介绍 。 　　纳米电极由于具有高传质速率 、低 iR 降、小时间常数等优 良特性而得到了越来越广泛的 研究和应用 。纳米阵列电极的电化学性质不仅和纳米单电极的性质相关 ,而且还具有 自身的 一些特性 ,如可获得较纳米单电极大得多的电流强度 ,具有较相同几何面积的常规电极高得多 ( ) 的信噪比 S / N 等 。这些特性使得纳米阵列电极的研究逐渐成为当今电化学研究领域最活 跃的前沿之一 。有关微电极 、超微电极的理论和应用研究曾有一些文献综述[ 1～3 ] 及专著[4 ] , 但 目前尚未见专门对纳米阵列电极进行评述的文章 。本文将对纳米阵列电极的制作方法 、基 本原理及应用领域进行介绍 。 1 　纳米阵列电极的制作方法 　　单根纳米电极的制作通常是采用化学侵蚀[5 ] 或光学刻蚀[6 ] 的方法制得尖端直径为纳米 级的碳纤维或金属丝 ,然后通过熔焊法或胶粘法制作成纳米电极 。阵列电极的制作工艺较为 复杂 ,尤其是制作按严格的规定组合起来的阵列电极则更困难 ,这也是导致阵列电极的理论研 究尚不完善的原因之一 。纳米阵列 电极的制作大致上可分为刻蚀法 、模板法和 自组装法 (表 1) 。其中刻蚀法属于微电子技术的范畴 , 由于篇幅限制 ,本文不对其进行详细介绍 ,有兴 趣的读者可参阅文献[7～11] 。 1. 1 　模板法 　　模板法制作纳米阵列电极使用最广的是聚合物膜模板和多孔阳极氧化铝膜模板 ,这两种 ( ) 膜现均已商品化 。纳米阵列电极的模板法制作过程 图 1 大致是先在通孔的模板膜的一面用 各种方法覆盖一层金属 ,这层金属膜较厚是为了保证电极能覆盖所有的孔 。然后将覆有金属 的一面与导电基体接触或者直接将金属膜作为导电基体进行电沉积 。通过控制纳米线的长度 赵燕 : 青岛大学硕士研究生 。 张亚利 : 青岛大学教授 。 焦奎 : 青岛科技大学教授 。 1 表 1 　纳米阵列电极的制作方法 制作方法 电极材料 单电极直径/ nm 电极类型 备注 文献 刻蚀法 金属 100 纳米插指 采用一种新的热压型光刻技术 ,包 [7 ] 阵列电极 括热压型、光刻 、金属沉积 、起撬等 步骤 。 Au ,Pt 50～250 纳米锥形 采用标准 Si 技术 , 包括干法等离