[应用案例]高精半导体芯片激光切割控制系统.pdfVIP

[应用案例]高精半导体芯片激光切割控制系统.pdf

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[应用案例]高精半导体芯片激光切割控制系统.pdf

高精半导体芯片激光切割控制系统 摘要:半导体芯片切割控制精度要求非常高,目前国内基本上用的都是进口设备。此为我公司 为某半导体厂家开发的设备。 关键词:芯片 激光切割 高精度 1、系统选型 (1)惯量计算 X轴负载惯量:J=Mx(P/2π)2 X轴负载重量Mx: 20.2kg x =20.2× (0.005/2×3.14) Y轴负载重量My: 2.9kg -4 2 滚轴丝杠螺距P: 5mm =0.128×10 kgm 2 -1 Y轴负载惯量:J=My(P/2π) 额定转速: 3000(min ) y =2.9× (0.005/2×3.14)2 摩擦系数: μ=0.2 -4 2 机械效率: η=0.9 =0.0184×10 kgm 4 加速时间: t=0.01s 滚珠丝杠: J =πρL D /32 2 B B -4 2 负载速度: V =15m/min =0.405×10 kgm L -4 2 X轴电机负载惯量: J =J+J=0.533×10 kgm LX x 2 -4 2 Y轴电机负载惯量: J =J+J=0.4234×10 kgm LY y 2 -4 2 400 电机惯量:J =0.26×10 kgm m4 -4 2 750 电机惯量:J 0.87×10 kgm m7= (2)扭矩计算 由于需要的行程速度是100mm/s到150mm/s,这次速度将以250mm/s=15m/min来计算。 -1 电机转速:N =V /P=15/0.005=3000 (min ) L L =3000×2π/60=314rad 加速度:a =N /t=3140rad/s2 + L X轴负载转矩:T =μMgP/2πη LX =0.2×20.2×9.8×0.005/2×3.14×0.9=0.035Nm Y轴负载转矩:T =μMgP/2πη LY =0.2×2.9

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