第五章 晶体硅太阳电池表面钝化技术.pdfVIP

晶体硅太阳电池表面钝化技术 1a, 2 1a 2 1a 1a 陈 伟 , 贾 锐 , 张希清 , 陈 晨 , 武德起 , 1a 1a 1b 1a 李昊峰 , 吴大卫, 陈宝钦 , 刘新宇 ( 1. 中国科学院 微电子研 所 a. 微波器件与集成电路研 室; b. 纳米加工与新器件集成 技术实验室, 北京 100029; 2. 北京交通大学 光电子技术研 所, 北京 10 0044) : 介绍了晶体硅太阳电池表面钝化技术的发展历程, 表面钝化膜在晶体硅太阳电池中所起的 作用, 以及晶体硅太阳电池中各种钝化膜和表面钝化技术阐述了国内和国际对晶体硅太阳电池 表面钝化技术的最新研 动态, 重点论述了SiO2 , SiNx , SiCx 和Al2 O3 , 以及这些钝化膜的叠 层钝化技术的优缺点在此基础上进一步指出SiO2 / SiNx 叠层钝化膜将成为今后工业化生产的研 重点, Al2 O3 及其叠层钝化膜将成为今后实验室的研 重点, 由于表面钝化是提高晶体硅太阳 电池转换效率最有效的手段之一, 今后晶体硅太阳电池表面钝化技术仍将是国内和国际研 的热 点问题之一 : 太阳电池; 钝化; 减反特性; 转换效率; 表面复合; 叠层钝化膜 : TM914.4; TN305.2 : A : 1671-4776 (2011) 02-0118- 10 Surface Passivation for Crystalline Silicon Solar Cells 1 a, 2 1a 2 1a 1a Chen Wei , Jia Rui , Zhang Xiqing , Chen Chen , Wu eqi , 1a 1a 1b 1a Li H aofeng , Wu awei , Chen Baoqin , Liu Xinyu ( 1. a. Key Laboratory of Microwave Dev ices and I ntegrated Circuits; b. Key Laboratory of anotechnology and ovel Device I ntegration Technology , Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beij ing 10 0029, China; 2. Institute of Op toelectronic Technology , Beij ing Jiaotong University , Beij ing 100 04 4, China) Abstract: The development and importance of the surface passivation for the crystalline silicon (cSi) solar cells, and various passivation films and surface passivation technologies are intro duced. T he latest research progresses of the surface passivation for the crystalline silicon solar cells both at home and