薄膜光学模拟软体实习 实习8 宽带高反射率镀膜 实习8 宽带高反射率 .doc

實習8 寬帶高反射率鍍膜 實驗目的 配合ThinFilmView模擬軟體，分析討論(HL)m，(LH)m，()m，()m膜堆組合寬帶高反射率鍍膜的特性。 實習軟體、儀器 ThinFilmView模擬軟體 實驗原理 ? 已知由膜堆組合而成的高反射率鍍膜，高、低折射率比值愈大，高反射率區愈廣。但是，在高、低折射率比值受限的情況下，如何擴展高反射率區範圍，以便提供特殊需要做應用將是很重要的課題。以下所列是2種擴展高反射率區範圍的可行方法。 1. 以起始層為λ0/4光學厚度，然後再對其他各膜層做有系統的算術或幾何級數式微調。 2. 組合設計波長些許差距的兩組高反射率鍍膜。 使用上述方法的高反射率鍍膜，可以不困難地將高反射率區涵蓋住整個可見光區波段，即使是其他光譜區域或大角度入射也同樣有效。 算術或幾何級數式膜厚的效果 第1層與最後一層為高折射率膜，膜厚呈現幾何級數分佈的高反射率鍍膜，其膜厚可以表示成 (λ0/4)km-1 上式中m：膜層數，k：公比，介於0.95與1.05之間。假設nH=2.35， 另一種處理：針對最後一膜層做λ0/4的監控，其餘設計如同上述條件，其光譜效果如下所示；兩相比較，可建兩種設計的光譜效果互也優劣。 另一類膜厚呈現算術級數分佈的高反射率鍍膜，其膜厚可以表示成 (λ0/4)(m-1)k 上式中m：膜層數，k：公差，介於-0.05與0.05之間。假設nH=2.35， 1/4波長膜堆重疊的效果 另一種簡易、有效擴展高反射率區範圍的方法，是重疊不同設計波長λ0/4高反射率膜堆設計。例如，假設高反射率鏡片的設計規格是針對可見光區，以2組13層鍍膜膜擬，安排如如下圖左所示，其中λ0的選定主要是根據高反射率區組合能夠涵蓋整個可見光區所做的調整。 上圖右顯示2組13層鍍膜，不同λ0的合成光譜效果，除了在波長 處有明顯凹陷外，其餘整各可見光區的反射率曲線還算是既高且平坦。這種高反射率平坦區出現高透射凹陷的缺點，與監控波長λ0的位置無關，完全是臨界兩膜堆最外層折射率相同所造成的先天特性，因此這樣的組合可以等效為法布里-伯羅(Fabry-Perot)鏡片。 合成兩組高反射率鍍膜，例如 上列的鍍膜安排，在λ=λ0A時，A膜堆主控高反射行為，而在λ=λ0B時，則由B膜堆主控，只有當λ=0.5(λ0A+λ0B)時，A、B兩膜堆無效，意即無法顯示高反射率特性，因為無效層的作用使整個系統如同未鍍膜一般，所以，才會有高透射凹陷的情形發生。 面對這種美中不足的缺陷，有何改善措施？茲列舉2種方法提供參考 1. 以偶數層(HL)膜堆組合，鍍膜安排為 其光譜特性如下 或者在兩膜堆之間安插一低折射射率層，使能破壞無效層存在的條件，最後設計為 其光譜特性如下 2. 採用對稱性膜堆組合 或 亦可避免高反射區有凹陷的出現。以()膜堆組合為例，鍍膜設計安排為 或者以λ0=0.46μm為監控波長，鍍膜設計安排亦可表示為 nH=2.45，nL=1.35，其單獨與總光譜特性依序如下所示 實驗步驟 1. 打開ThinFilmView模擬軟體，選按功能表列之 膜名輸入：寬帶高反射率鍍膜，層數設定為1，按OK 寬帶高反射率鍍膜設計：1/(HL)7 (HL)7/Quartz，前膜堆設計波長λ0=0.46μm，後膜 堆設計波長λ0=0.63μm；於膜層Thickness欄位位置點按滑鼠右鍵，選項插入週期性膜 層 插入位置：下拉選項最後，周期：7，意即2×7+1為14層膜堆設計 刪除原第一層鍍膜 2. 調整周期膜層中的第1層鍍膜材料為MgF2 設定設計波長為630nm 曲線圖格式設定視窗中，勾選自動選項 波長曲線圖結果為 3. 於p1列中點按滑鼠右鍵，選項插入週期性膜層 調整第二周期膜層中的第1層鍍膜材料為MgF2 寬帶高反射率鍍膜設計：1/(HL)7 (HL)7/Quartz，前膜堆設計波長λ0=0.46μm，後膜 堆設計波長λ0=0.63μm，因此將第二膜堆的膜厚更改為 0.25×(0.46/0.63)=0.18254 波長曲線圖結果為 4. 顯示高反射率鍍膜設計的波長、入射角複合圖表 5. 顯示高反射率鍍膜設計的蒸鍍控制曲線圖 6. 顯示高反射率鍍膜設計的電場強度分佈圖 7. 顯示高反射率鍍膜設計的顏色計算圖 8. 顯示高反射率鍍膜設計的製造誤差解析圖 9. 顯示入射角為0度與30度時，相對應的S、P偏振反射率波長圖 實驗結果 問題與討論 使用空氣/(HL)6H (HL)6H/基板的設計，前膜堆設計波長λ0=0.46μm，後膜堆設計波 長λ0=0.63μm，比較上