镍基合金基体上离子镀tin 薄膜的制备及性能 - 哈尔滨工业大学学报.pdf

第２４卷　 第４期 材　 料　 科　 学　 与　 工　 艺 Ｖｏｌ２４ Ｎｏ４ 　 　 ２０ １６年８月 ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＆ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ Ａｕｇ． ２０１６ 　 　 　 　 　 　 ｄｏｉ： ｊ．ｉｓｓｎ － １０．１１９５１／ ．１００５ ０２９９ 镍基合金基体上离子镀ＴｉＮ薄膜的制备及性能 １，２ ３ ２ ２ 陈舒恬 ，甘　 斌 ，王　 珏 ，皮锦红 （１．江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室（南京工程学院），南京 ２１１１６７；２．南京工程学院材料工程学院， 南京 ２１１１６７；３．西北工业大学 材料学院，西安 ７１００７２） 摘　 要：在镍基合金Ｉｎｃｏｎｅｌ７４０Ｈ基底上通过多弧离子镀制备ＴｉＮ薄膜．控制温度、气体流量、过渡层成分等重要参数，研究其 对ＴｉＮ薄膜的表面形貌、力学性能以及耐腐蚀性的影响．多弧离子镀沉积过程中，沉积温度分别为２００、２５０、３００ ℃；过渡层成分 分别为Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ；气体流量分别为Ａｒ５Ｓｃｃｍ ∶Ｎ４０Ｓｃｃｍ，Ａｒ６Ｓｃｃｍ ∶Ｎ４８Ｓｃｃｍ，Ａｒ８Ｓｃｃｍ ∶Ｎ６４Ｓｃｃｍ．实验结果表明：在本实验 ２ ２ ２ 的温度范围内，ＴｉＮ薄膜的致密度、结合力以及表面硬度均随着沉积温度的提高而提高；Ｃｒ作为过渡层的效果优于Ａｌ 和Ｔｉ，薄 膜成分均匀、表面致密，硬度更高，且耐腐蚀性能优异；在Ａｒ、Ｎ 流量比一定的情况下，气体流量对ＴｉＮ薄膜的表面形貌和力学性 ２ 能影响不大．本实验的最佳参数是：沉积温度３００ ℃，过渡层成分为Ｃｒ，气体流量为Ａｒ ６Ｓｃｃｍ、Ｎ４８Ｓｃｃｍ． ２ 关键词：表面处理；ＴｉＮ 薄膜；离子镀；纳米压痕；镍基合金 － － － 中图分类号：ＴＧ１７８ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００５ ０２９９（２０１６）０４ ００８２ ０５ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ＴｉＮｆｉｌｍｓ ｂｙ ｉｏｎｐｌａｔｉｎｇ ｏｎｔｈｅ ｎｉｃｋｅｌ⁃ｂａｓｅ ａｌｌｏｙ １，２ ３ ２ ２ ＣＨＥＮ Ｓｈｕｔｉａｎ ，ＧＡＮ ｂｉｎ ，ＷＡＮＧＪｕｅ ，ＰＩ Ｊｉｎｈｏｎｇ （１．Ｊｉａｎｇｓｕ Ｋｅｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ ｏｆ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ （Ｎａｎｊｉｎｇ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）， Ｎａｎｊｉｎｇ ２１１１６７，Ｃｈｉｎ