磁场退火制备FePt垂直磁化薄膜论文.pdfVIP

展晓元等：磁场退火制备FePt垂直磁化薄膜 磁场退火制备FePt垂直磁化薄膜+ 展晓元，顾有松，郑小兰，张跃 (北京科技大学材料学院材料物理与化学系，北京100083) 摘要：研究了用磁场退火的方法来制备具有垂直磁 本文报导一种新的在单晶8i基片上采用磁控溅射 化的FePt薄膜。在400(2热处理过程中施加垂直于薄膜 法制各垂直磁化Felt薄膜的方法：在热处理过程中通 表面的磁场，大小为0一10000kA／m，诱导薄膜易磁化 过外加磁场来促使薄膜易磁化轴垂直于膜面。并对磁场 ， 轴垂直于膜面．热处理后样品的结构和性能通过x射 热处理后薄膜结构和性能进行了研究。 线衍射和振动样品磁强计检测．通过对热处理后样品的 2实验方法 XRD分析发现，样品在磁场热处理过程中有一个有序． 无序．有序重排的过程，外加磁场能够诱导薄膜易磁化 轴沿着磁场方向有序化；随着外加磁场的增大，样品垂 片为自然氧化的(100)取向的单晶硅，成膜前在丙酮。 直方向矫顽力先降低再升高，10000kA／m的磁场热处理 去离子水和酒精中清洗，成膜时基片保持水冷。Fe和 后，样品的垂直有序化参数s。o．89，矫顽力风一 83kA／m． Fe靶采用射频(RF)溅射，调节两个靶的功率使制各 关键词： 垂直磁化；热处理：磁性能；结构观察 薄膜成分满足实验方案要求。薄膜磁控溅射仪本底真空 中图分类号：TM274 文献标识码：A 度和成膜真空度分别为2．5×10。Pa和0．6Pa。样品热处 文章编号：1001．973l(2006)增刊．0159—03 理所用真空炉的真空度为2．5×10-3Pa，保温时间为1h， 1 引 言 外加磁场晟大为10000kA／m；样品结构在12kW Rigaku 随着电子信息产业的高速发展．对高密度、大容量 LDJ9600型振动样品磁强计(VSM)检测。 的磁记录器件的需求越来越强烈．超高密度磁记录介质 材料的研究成为当前材料科学与工程研究的一个重要 3结果与讨论 的前沿课题。在众多磁记录介质材料当中，L10(CuAu-I 3．1样品结构分析 型)有序结构的FePt台金薄膜具有很高的单轴磁晶各 溅射态的FePt台金薄膜在室温下为软磁的Y相， 向异性(丘a107J／m3，比现在普遍应用的co系合金磁 通过热处理使其转变为硬磁的72相，热处理后的FePt 记录材料高一个数量级)、高矫顽力(皿≈4780kA／m) 和高的磁能积((岛)。。≈4．05×105T·A／m)Ill,在高密 品中Y2相已经形成，其表现为Y相的(200)衍射峰劈 度磁记录介质材料方面有着广阔的应用前景。 裂为Y 块状FeFt合金在室温下是有序化的Y2相(LIo结