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- 2017-07-10 发布于浙江
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2.3_IC测试要求和步骤
IC 测试要求和步骤
一、测试原理:
对于基于 CMOS 工艺制造的 IC 芯片,T3Ster 系统可以进行瞬态热测试,并
进而得出散热路径上的结构函数。
使用CMOS 工艺制造的芯片,在进行瞬态热测试的时候,将GND 管脚和Vdd
管脚找到,并在 GND 管脚接入正电压,Vdd 管脚接入负电压,电流流过 CMOS
电路的体二极管,使芯片发热,并进行测试。
图:IC 测试原理——CMOS 芯片的体二极管作为测试对象
或者选择IC 电路中的ESD 保护二极管作为测试的对象,进行瞬态热测试。
图:IC 测试原理——芯片的ESD 保护二极管作为测试对象
结构函数反映了从发热源(Die Chip)到环境(热沉,最后直线向上部分)
的热流路径上的所有热容与热阻分布。根据结构函数上斜率(热容与热阻的比值)
变化,可以区分出代表不同材料的线段。T3Ster 系统用直观的方式,帮助分析热
流路径上不同材料的热阻与热容。
图:IC 芯片测试后的结构函数
二、测试的准备和条件:
1,对于复杂的BGA IC 来说,首先要按照Bloc
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