X光绕射在工业材料分析上之应用.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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X光绕射在工业材料分析上之应用

X 自從1912年德國物理學家Max Von Laue以X光照射硫酸銅晶體發現繞射現象以來，除了證實晶體內部組成原子具規則性排列之外，同時也為材料科學研究提供了十分基本而有效的研究方法。早期X光繞射僅用來決定晶體的結構，隨後其它各種用途也相繼不斷地發展。本文將針對X光繞射在工業材料分析上之應用，做一簡單的介紹。 1 9 8 5 (Wilhelm Roentgen)X X 0.1cm (Crystal) X (Amorphous) -8 X 10 cm X X – 50 – 80 82 8 (Unit Cell) (Group Theory) X 2θ 14 I dhkl, Ihkl X X 2θI/IO I/IO 100 JCPDS (Joint Committee on Powder Dif- fraction Standards) X JCPDS