第二章文献回顾与基础理论.pdf

第二章 文獻回顧與基礎理論 利用鍍膜方式以增進光學元件之穿透率，首次於西元 1817年由德 國 Fraunhofer研究院，利用酸蝕法成功的 製造抗反射膜使透鏡之透光 率增加[17] ，而後演進至今，現今於光學鏡片上進行光學鍍膜衍然已 成為光學系統設計與製作之標準製程。而關於探討次波長結構 （sub-wavelength structure ；SWS ）之抗反射功能則於西元1967年由 C. G. Bernhard 首先於文中描述，發現自然界許多昆蟲的眼睛，例如 飛蛾的眼睛（ moth-eye ），即具有相同於人類所使用的鍍膜方式所產 生之抗反射功能，觀察蛾眼的表面具有一些尺寸小於波長的突起結 構，此結構本身就是一種自然界中的抗反射結構。 2.1 次波長結構應用於抗反射發展歷史 1973年P.B. Clapham 、 M. C.Hutley 兩人於Nature期刊一篇研究中 首先製作仿自然界人造蛾眼結構 [18] ，製程利用全像干涉的方法在玻 璃表面上塗佈光阻（photoresist ），以人工方式製作出小於波長的圓 錐形之規則陣列，尺寸大小約為200 nm左右，量測結果發現正如自然 界蛾眼結構一樣，表面的圓錐型光阻陣列結構具有降低反射率的效 果，如圖 2.1所示。 13 圖 2.1 (a)Nature期刊中的仿蛾眼表面結構之電子顯微鏡影像、 (b)反射率光譜圖 然後在1982年Wilson 等人，嘗試進一步將蛾眼結構的光學抗反射 特性加以分析[19] ，發現抗反射隨著表面結構的形狀不同而改變，因 此提出解釋，認為結構之所以造成抗反射特性為材料表面因形貌造成 材質折射率呈現梯度變化所致，並且隨著表面蛾眼結構深度的增加， 反射率則呈現逐漸下降的趨勢，如圖 2.2所示。意即當材料表面具有 小於波長的突起結構，能夠在空氣與表面結構之間產生有效的梯度折 射率（ gradation of refractive index ），能夠抑制反射並且光的散射可 以忽略，後來稱之為蛾眼效應（moth-eye effect ）。 14 圖 2.2 (a) 表面結構形式不同所相對應不同的漸變折射率之示意圖 (b) 不同深度的蛾眼結構之電子顯微鏡影像圖 2.1.1次波長結構之光學理論探討 關於這樣定性的描述與發現，並不足 以科學角度來解釋此一特殊 的光學現象，於是後續便吸引更多包含次波長光學原理探討、奈米光 學模擬分析及奈米結構製程之眾多學術研究投入與探討。 其中光學 原理探討方面 M.G.Moharam與 T.K.Gaylord 兩位大師自1981至1995陸 續提出多篇論文，其中包含針對一維及二維光柵之次波長效應進行分 析並建立理論模式，以準確提供光學模擬所需之模型，其分析方法主 要為利用嚴格向量理論，或所謂之嚴格耦合波理論（ RCWA ）加以分 析Maxwell波動方程式，然而針對三維之複雜空間模型，利用此分析 方式無法順利求得解析解，亦即無法計算求得正確之光場傳遞結果。 15 因此後續理論模式之推導的相關研究便數量逐漸減少。另一方面，隨 著半導體製程技術能夠製作出更小更精確的小尺度的結構，意即大面 積微奈米結構之製程技術日漸成熟，相關研究轉而投入製程之相關研 究，其中包含 1987年Yuzo Ono 、1999及 2001東北大學 K. Hane教授、 1992年M.E. Motamedi 、1997年Philippe Lalanney 、2000年K. Hadobas 等，均成功利用曝光顯影或電子束顯影技術於矽晶圓上製作不同之奈 米結構並驗證其抗反射效能。 2.1.2次波長結構之製程技術 上述日本東北藝術工科大學的K.Hane教授，首先在西元1999年 同時利用電子束微影（ electron beam lithography ）以及迅速的原子束 （SF6 fast atom beam ）兩種技術，先在結晶性的矽基板上定義出所要 的圖形結構 [20] ，然後蝕刻出具有週期性排列的二維次波長結構陣列 （two-dimensional sub-wav