掩膜点光源LED 优化传感器照明 - LEDs科技.PDF

application POINT-SOURCE 应用 点光源 掩膜点光源 LED 优化传感器照明 经过几十年的不断演变，现今在 周围的隔离墙不允许传输光，导致二 大多数领域，LED 被视为最好 极管没有横向发射。由于没有光从结 的照明方案。然而，仍有细分市场认 构的侧面发射，而底部通常连接到封 为目前的LED 性能不太理想。这部 装，唯一的辐射源是LED 的顶部表面。 分市场的需求不仅要求高效率照明， 上述的表面光辐射技术的改进， 也要求LED 有高质量的辐射图。本 即在活跃区域下面加入一个反射层， 文描述了一种LED 技术的新进展， 从而将底部的光反射到顶部表面，增 称为掩膜点光源LED ，针对照明品质 加LED 的亮度和效率。 要求高于传统LED 的应用。 由于相对于传统LED ，表面光 目前最常用的LED 技术是立体 辐射LED 的附加制造步骤和较低密 光辐射，主要是由于其简单的制造工 度晶圆的高成本原因，表面光辐射 艺和高强度的光与整体的低成本。 LED 不像立体光辐射LED 一样被普 随着LED 技术的进一步推进， 遍采用。表面光辐射LED 主要应用 图2. 掩膜点光源LED 结构 一种被称为表面光辐射的新技术产 在需非常谨慎操控的场合。 这是最终LED 封装的组件之一。玻 生了。这种LED 需要修改制造工艺， 璃的顶部附有一层薄掩膜，来定义 其结构如图 1 所示。 点光源LED 的结构 发射的光圈。此掩膜也可以附着在 表面光辐射LED 通过只对一个 玻璃的底部，或者同时在顶部和底 方向发射光改善了辐射图，然而对于 部。此设计的另一重要的改进是将 一些特定的应用，这还远远不够。这 接合线和其接触点转移到半导体表 种苛刻的应用要求非常精细的照明模 面的边缘，从而远离辐射路径。其 式，标准的LED 技术是无法达到的。 结果是，保留了前面所述的表面光 因此，仍存在一个有着更高品质照明 辐射LED 的大部分特性，同时将光 需求的细分市场。 发射集中在指定的光圈形状和尺寸 在此背景下，掩膜点光源LED 内，还为提供均匀的、明晰的照明 应运而生，以使用LED 技术提供当 创建一条清晰的路径。 今可实现的最高品 质的照明模式为目 图1. 修改后的表面光辐射LED 的结构 标。图2 描述了一 表面光辐射LED 和立体光辐射 种掩膜点光源LED LED 是基于同一基本概念：即一个负 的结构。 极的N 型半导体在正极的P 型半导 图2 所呈现的 体上面。两种LED 的半导体材料都 结构中，掩膜点光 是相同的，但有一个额外的修改是： 源LED 基于表面光 活跃区域被隔离墙包围着，使二极管 辐射LED ，但有稍 的活跃区域局限在一部分。活跃区域 许修改。在N 型半 导体层（负极）添 作者：iC-Haus 公司（ ） 加了一层平板玻璃， 图3. 在生产点光源LED 时，有无掩膜对比图 LEDs TECHNOLOGY CHINA LEDs 科技 2016年 4/ 5月 17 应用 点光源 application POINT-SOURCE 传统LED 和掩