分步救影九机对准糸统应用与嘶琵.PDF

维普资讯 光学光刻技术 · 电手 工 业 专 用 设 置 ■ · 分步救影九 机对准糸统应用与嘶琵 吴成功 (中国电子科技集团公司第 四十五研究所，北京东燕郊 101601) 摘 要：分步投影光刻设备对准系统是 由嵌在工作 台上的一组基准标记、一套 离轴对准系统和一 套掩模对准系统组成。 当工作台上的基准标记运行到投影镜头下面时，通过掩模对准系统在预定范围内扫描测量 标记位置值 。当工作台上的基准标记或硅片上的标记运行到离轴对准系统测量光束下面时，用系 统扫描可以测量出标记的坐标值。即可通过测量值计算出每个曝光场的中心坐标值。通过 EGA 对准数据，可计算出硅片的平移偏移量、旋转量、比例量和正交性量的补偿值 。 关键词：离轴对准：基准标记：同轴对准 ：增强式选场对准 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A 文章编号：1004—4507(2004)08—0058—05 ApplicationandResearchonAlignmentSystem forStepper WUCheng—gong (The45thResearchInstituteofCETCBeijingEastYanjiao101601，China) Abstract：Analignmentsystem ofstepexposureapparatuscomprisesagroupfiducialonwaferstage、an off-axisalingmentmoduleandreticlealing mentmodule． Whenafiducialmrakonthewaferstageispositioneddirectlyundertheprojectionlens，apreset- tingisperformedSOthatmeasuringvaluebythereticlealingmentmodule．whenafiducial mrakonthe waferstageoramrakonthewaferispositioneddirectlyundertheoff-axisalingmentcenter，thecoordi— natesofthemarkcanbeobtained．Thecentercoordinatesofeach shotcanbecalculatebythealignment value．ThroughtheEGAalingmentdata，theoffset，rot~ion，scalingandorthogonalofwafercanbecorrected． Keywords：Off-Axisalingment；Fiducial；1TrL；EGA 对准系统是投影光刻机关键技术之一，其对准 五”期间的预研成果高精度电视图像识别 自动对准 精度将直接影响产品质量，其对准速度和效率将影 技术 ，是将掩模和硅片直接对准 ，应用复杂的图像 响产品的生产率。最早的对准系统是采用手工显微 处理算法。 镜让掩模和硅片分别与基准标记对准的方法，我所 近年我所研制的步进投影光刻机上采用的对 早期研制的投影光刻机即是采用此方法，而 “七 准系统主要思想是通过一套离轴对准系统和承片台 投稿 日期：20o4—01—10 作者简介：吴成功 (1975-)，男，甘肃 白银人，工程师，现主要从事半导体设备研制工作。 ⑩ (总第116期)圈■■囡衄 维普资讯 ■ 电 子 工 业 毫 用 设 备 · 光学光刻技术 · 上的基准标记是将掩模版、镜头