第7章光学光刻.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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第7章光学光刻

第章光学光刻 7 第第章章光光学学光光刻刻 77 第章光学光刻 7 第第章章光光学学光光刻刻 77 7.1 光刻概述 77..11 7.1 77..11 光刻概述光源曝光光刻曝光方式刻蚀评价光刻工艺可用三项主要的标准：分辨率、对准精度和生产效率。光刻工艺流程涂光刻胶（正）选择曝光选择曝光 1 2 显影（第次图形转移）刻蚀（第次图形转移） 11 22 g 线：436 nm gg 443366 nnmm UV 紫外光（UUVV） i 线：365 nm ii 336655 nnmm KrF 准分子激光：248 nm KKrrFF 224488 nnmm DUV