cdna微阵列技术研究干旱胁迫下柽柳基因的表达.pdf

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cdna微阵列技术研究干旱胁迫下柽柳基因的表达

第 27卷  第 2期              植    物    研    究 2007年  3月 Vol. 27 No. 2            BULL ETIN OF BO TAN ICAL RESEARCH M ar. ,  2007 cDNA 微阵列技术研究干旱胁迫下柽柳基因的表达 王玉成  李红艳  杨传平  张国栋 (东北林业大学林学院 ,哈尔滨  150040) ( ) 摘  要  运用 cDNA 微阵列技术研究干旱胁迫下柽柳 Tam a rix and rossow ii 基因的表达 。分别将 Cy5和 Cy3两种荧光染料标记在干旱处理和对照的柽柳 cDNA 上 ,并与载有柽柳基因的微阵列进 行杂交 ,通过计算机对芯片进行扫描和分析研究干旱胁迫下基因的表达 。共获得了 47 个下调表 达和 62个上调表达的基因。B la stx分析表明这些基因按功能可以分为脱水保护 、信号传导与调 控 、活性氧清除、光合作用 、代谢 、核糖体蛋白、蛋白质的分解与再生等几大类别 。同时 ,发现了一 些与干旱胁迫相关的功能未知基因和新基因。从而揭示了柽柳具有活性氧消除、代谢调节 、脱水 保护 、蛋白质降解与再生等抗旱途径 ,并阐述了干旱胁迫前后柽柳基因的差异表达 。 关键词  基因芯片 ;柽柳 ;干旱胁迫 ;基因表达 Study on Expression of Genes in Tam a r ix an d rossow ii under D rought Stress U sing cD NA M icroarray Technology WAN G YuCheng L I HongYan YAN G ChuanP ing ZHAN G GuoDong (Co llege of Fore stry,Northeast Fore stry U n iversity, H arb in 150040) A b stract cDNA m icroarray m ethod wa s emp loyed to study gene s exp re ssion p attern in Tam a rix and ros sow ii under drough t stre ss. cDNA s from T. and rossow ii treated w ith drough t stre ss and con tro l group were labeled w ith two fluore scence dye stuff Cy5 and Cy3 , and hyb ridize w ith cDNA m icroarray con tain ing T. and rossow ii gene s. Gene exp re ssion under drough t stre ss wa s studied through scann ing and analysis of gene ch ip by comp u ter. Totally 47 downregu lated gene s and 62 up regu lated gene s were ob tained. B la stx analysis showed that the function of the se gene s cou ld be group ed in to the categorization s such a s

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