一种实用的PECVD腔体检漏工具设计方法 - 液晶与显示.PDF

第 卷 第 期 液晶与显示 ３０ 　 ５ 　　 Vol．３０　No．５ 　 　　　　 　　　　　　ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas 年 月 q y p y ２０１５ １０ 　 　 　 Oct．２０１５ 文章编号: ( ) １００７Ｇ２７８０２０１５０５Ｇ０８１３Ｇ０６ 一种实用的PECVD腔体检漏工具设计方法 ∗ , , , , , 周 梁 韩大伟 孙泉钦 王丹名 李 华 陈 垚 　 　 　 ( , ) 成都京东方光电科技有限公司 设备技术部 四川 成都 ６１１７３１ : , ; , 摘要 在 TFTＧLCD行业 PECVD设备主要用于 Arra TFT基板工艺中的气相沉积 产生的非金属膜层 为金属电路提 y 、 ; , , , , 供保护 开关作用 在 PECVD工艺制程中 腔体设计复杂 反应条件苛刻 产生的制程物会造成产品不良 故需要定期进 ( ). , , , 行 PM remaintenance预防性维护 本文以PECVDPM作业为背景 针对设备 PM耗时长的问题 制定了改善方法 p . , . , 并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程 设计制作了一台国产化检漏工具 成功运用于量产 通过测试 检漏工具 ３ ( ), / , ( ) . min内达到 １０mT １mT＝０．１３３Pa 漏率为 ０．４５mTmin基本符合设备 Sec．标准 要求 p : ; ; ; 关 键 词 腔体检漏工具 自主设计 　 　 TFTＧLCDPECVD 中图分类号: 文献标识码: : / TN１４１　　 A　　doi１０．３７８８YJYX０８１３ PracticaldesinmethodofPECVDcavitcheckＧu tool g y p , , , , , ZHOULian HANDavid SUNQuanＧin WANGDanＧmin LIHua CHENYao g q g