不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力_朱嘉琦.pdfVIP

第 2 1卷 第 1期 新 型 炭 材 料 V o l 2 1 N o 1 2006年 3 月 NEW CARBON MATE R IAL S M ar 2006 : 1007-8827 ( 2006) 01-0059-05 朱嘉琦, 韩杰才, 高 巍, 孟松鹤 ( 哈尔滨工业大学 复合材料与结构研究所, 黑龙江 哈尔滨 15000 1) : 为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律, 进而确定应力与拉曼光谱之间 的关系, 采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在 P( 100) 单晶抛光硅衬底上制备了从 3 nm ~ 350 nm 不同 厚度的四面体非晶碳薄膜。利用表面轮廓仪和原子力显微镜测试膜厚, 表面轮廓仪确定曲率半径并计算薄膜应 力, 共聚焦拉曼光谱表征薄膜的结构细节。实验发现, 随着膜厚的增加, 四面体非晶碳薄膜的应力持续下降, 当膜 厚超过 30 nm 时, 应力的下降趋势变得平缓, 并保持在小于 5 G P a 的较低水平。随着膜厚的增加, 可见光拉曼光谱 中衬底硅的一阶和二阶谱峰强度逐渐降低, 在 50 nm ~ 80 nm 膜厚范围, 半高宽最窄, 峰强最高, 能够最有效地获得 拉曼结构信息。随着膜厚的增加和应力的下降, 非晶碳一阶谱峰的峰位表现为逐渐向低频偏移。 : 四面体非晶碳; 过滤阴极真空电弧; 拉曼光谱; 应力 : O 46 1 21 : A 1 前言 膜应力的变化规律, 并分析不同厚度四面体非晶碳 膜的拉曼光谱。 四面体非晶碳( ta- C ) 是上个世纪九十年代发 展起来的的一种新型宽带隙半导体材料, 既具有比 2 实验 氢化非晶炭更好的光热稳定性, 又具备许多堪与金 2 1 刚石相媲美的卓越性能, 它的最大优点是能够在室 温下沉积在不同衬底上, 并能够实现良好的掺杂改 采用离面双弯过滤阴极真空电弧( FCV A ) 类金 性, 可以广泛应用于微电子、医疗、国防等不同领域, 刚石薄膜沉积系统制备样品, 实验原理详见文献 近年来已经成为新型炭材料家族中最感兴趣的研究 [ 6] 。沉积时, 对衬底施加相同的直流脉冲负偏压 [ 1, 2] ( - 80V ) , 固定脉冲频率 1 500 H z, 脉宽 25 L s, 从 对象之一 。一般采用电子或中子衍射、核磁共 0 s~ 500 s改变沉积时间获得一组厚度不同的四面 振谱、电子能量损耗谱、拉曼光谱等手段来表征四面 体非晶碳薄膜试样。利用光敏传感器定位的机械引 体非晶碳的结构细节, 其中, 拉曼光谱是最有前途的 常规非破坏方法, 被广泛用于研究石墨、金刚石、类 弧机构每隔 15 s定时强制触发电弧, 确保高纯石墨 [ 2-4] 阴极的靶面平整和电弧的持续稳定燃烧。所有试验 金刚石以及碳纳米管等不同炭材料的键态特征 。 四面体非晶碳薄膜的特征参数, 尤其是几何厚度对 均采用相同的扫描波形, 保证在直径 250mm 的沉 积区域内膜厚均匀。应力试样衬底采用厚度 其拉曼光谱有着显著的影响, 弄清膜厚对结构表征 的作用规律, 有助于更有效地获得特征信息。另外, 0 5mm直径 50 8mm