党智敏-2008-聚酰亚胺_介孔二氧化硅复合薄膜的介电性能研究.pdfVIP

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2017-07-17 发布于河北
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党智敏-2008-聚酰亚胺_介孔二氧化硅复合薄膜的介电性能研究

60 :/ 2008, 41(2) / 1 2 1 马兰杰 , 杨志强 , 党智敏 (1. , 100029; 2., 100041) :(PI)/(MCM -41)。X (X RD )、 (T EM ) MCM -41 , (SEM ) MCM -41 MCM -41 。 :PI 。P I , MCM -41 3.0%, 14 15 , 2.8×10 Ψ·m 2.1×10 Ψ·m, 3.26 2.86,。 :;MCM -41 ;; ;; :TM 215.3 ;T Q323.7 :A :1009-9239 (2008)02-0060-04 Dielectric Pro erties of Pol imide/Meso orous p y p Silica Com osite Films p 1 2 1 MA Lan-ie , YANG Zhi- ian , DANG Zhi-min j q g (1 .Key Laboratory of the Ministry of Education on Nanomaterials, Beij ing University of Chem ical Technology , Beij ing 1000 9, China ;.Shougang Technical Research Institute, Beij ing 100041, China) Abstract :Pol imide/meso orous sili a (PI/MCM_41) om osite films were re ared b usin in_situ dis- y p p p p y g ersive ol merization .The stru ture of hexa onal MCM_41 was observed with owder X_ra diffra - p p y g p y tion (XRD)and transmission ele tron mi ros ope (TEM).Meanwhile, the dispersion of MCM_41 was observed with s anning ele tron mi ros ope (SEM).Moreover, the dependen e of diele tri properties of the om osite films on MCM_41 loadin was studied.The results show that the volume resistivit p g y a