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应用于先进奈米元件之金属矽(锗)化技术.pdf

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    行政院家科委研究成果告用於先奈米元件之金矽化技研究成果告精版型行期年月日至年月日行位法人家研究院奈米元件室主持人文人士班研究生兼任助理人李肇中士班研究生兼任助理人蔡智博士班研究生兼任助理人明博士班研究生兼任助理人邱蕙告附件出席研究心得告及表文公本涉及利或其他智慧年後可公查中民年月日中文摘要具有金矽化物源汲的金氧半效晶元件目前已泛使用在各的奈米金氧半效晶造上平面式的元件乃至奈米多通道效晶金矽化物均扮演重要的接材料角色其原因在於金矽化物具有低阻良好的定性化定性但著元件越做越小降低於源汲的金矽化物矽之

    行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 應用於先進奈米元件之金屬矽(鍺)化技術(I) 研究成果報告(精簡版) 計 畫 類 別 ： 個別型 計 畫 編 號 ： NSC 99-2221-E-492-028- 執 行 期 間 ：99年08月01日至 100年07月31日 執 行 單 位 ：財團法人國家實驗研究院奈米元件實驗室 計 畫 主 持 人 ： 吳文

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