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软X射线光刻研究现状和发展_姚汉民.pdf
第 23卷增刊 光电工程 Vol. 23, Sup.
1996年 12月 Opto-Electronic Engineering Dec, 1996
X
姚汉民 袁大发
(,, 610209)
新的 一代光刻设备朝着两 个方向发展, 一是趋向于大数值孔径、短 长;另 一
方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0. 15微米线宽的软 X 射线投影光刻技
术,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。 软 射线光刻
X
及其应用研究是目前国际上非常活跃的高技术领域。把软 射线光刻列为重要发展
X
项目。 本文摘要综述德国、美国、日本、俄罗斯等国近年来在软 X 射线光刻关键单元
技术及整机研究和发展方面的概况、预计下世纪初美国和日本将有软 X 射线投影光
刻机投入工艺生产线。
X 射线光刻,软 X 射线, X 射线光刻机,光致抗蚀剂。
Current Status and Future Development
of Soft X-Ray Lithography
Yao Hanmin,Yuan Dafa
(Institu te of Op tics E lectron ics ,Ch inese
A cad emy of Sciences ,Cheng d u , 610209)
Abstract he new generation of optical lithographic equipment is now developing
towards two directions,i. e. big N A , shorter wavelengths and soft x-ray projection
lithography, which will satisfy requirements to U LSI in 21st century and its
linewidth is less than 0. 15μm. he soft x-ray projection lithographic equipment is
: , 1944, 1966。、、
,、,
。 1979 160、 160、 450、 210。 1979
DX DX
, JK-1 /
, 1. 5,
,。 “”,,“
”“”,“”。
: 1945, 1969。 、,
、、、
,、。
: 1996- 12- 15
128 第 23卷增刊
expected to become the key apparatus manufacturing Gbit DRAM devices of U LSI
in next century.
he soft x-ray microlithography and its applied studies are brisk high-tech
fields investigated by many advanced countries and world’ s first-rate corporations,
-
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