基于专利计量的集成电路制造技术创新能力分布研究.pdfVIP

第28 卷第3 期 Vol. 28 No.3 研究与发展管理 2016 年6 月 RD MANAGEMENT Jun. 2016 文章编号: 1 ∞4-8308(2016 )03咽47-08 基于专利计量的集成电路制造技术创新能力分布研究 刘云，闰哲，程祷妓，谭龙 (北京理工大学管理与经济学院，北京 1∞081) 摘 要:通过建立集成电路制造技术领域分类体系，确定专利信息检索策略，对德温特专利数据库进行专利信 息下载、清理，采用专利计量方法，分析了 1974-2013 年全球集成电路制造各技术领域专利的时间分布特征， 探讨了各技术领域的创新发展趋势;通过专利地位一专利质量二维分析矩阵比较分析了集成电路制造各技 术领域美国、日本、中国所处的地位.研究发现，中国在集成电路各技术领域的创新能力与美、日等领先国家均 有较大差距，未来在重点推动封装技术、退火技术、平坦化工艺3 个技术领域创新发展的同时，还应加强对先进 技术的引进、消化、吸收、再创新.最后，提出了今后中国集成电路制造重点技术发展方向的若干建议. 关键词:集成电路制造;专利计量分析;技术创新能力;国际比较 中圈分类号: F204 文献标识码:A 2006 年，{国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020 年n将极大规模集成电路制造技术 及成套工艺确立为科技重大专项[IJ 随后科技部在《国家十二五科学和技术发展规划》提出，要加快 实施科技重大专项，集中力量突破一批关键共性技术，以尽快缩小与世界先进水平的差距f2J 如何选择关 键技术突破点快速提升自主创新能力成为现阶段摆在中国面前的一道难题[3 J 因此，分析全球集成电路 制造技术领域发展趋势，认清自身所处地位，选择我国的优先发展领域，具有重要的现实意义. 国内外学者针对集成电路制造技术创新开展了广泛研究. Fu川uller[μ川4叫]\、Le叫vit阳a副s 等;汗川5盯]、 S仙hen CωorSl白mo 和 Gωabri怆iel由le[川7η] 、 Tsa缸i 和 Chen[川川8剖]分别从国家创新系统、专利布局、技术创新模式、企业创新、创新溢出 等角度对全球创新现状开展研究;陈跑[凹阴9引]、雷瑾亮等[υ阐恻lω叫0圳]、张贺胜[川l川叫l川]、叶甜春[川u叫]、宋朝瑞等[日]分别从发展 趋势、产业形态演变、创新能力评价、自主创新战略和重大专项政策等角度对国内创新发展现状进行了研 究;张诚等[14J 、姜丽楼和杨起全[町、杨晓丽川、刘晓燕等[川、陈冠源[叫通过专利计量方法分别对国内该 产业的整体专利布局、典型企业专利布局以及专利合作网络等进行了研究.总体来看，虽然学者们从宏观 或微观的角度对全球或者某一地区的产业创新情况进行了分析，但目前尚没有关于集成电路产业技术领 域分类体系的研究，也没有针对集成电路产业各技术领域技术创新能力的演进和比较分析. 本文通过文献研究和专家咨询，建立了集成电路制造技术领域分类体系;基于德温特专利数据库，研 究选择各技术领域关键词并制定专利检索策略，建立本地数据库;采用专利计量方法对该产业各技术领 域专利的时间分布和主要国家分布特征进行分析，以揭示我国集成电路产业各技术领域的优势和差距， 为进选优先发展领域提供参考. 1 数据和研究方法 1. 1 技术领域分类体系与检索策略确定 集成电路制造是国家宏观科技规划中一个重要的技术领域，其中包括各类细分的高端制造工艺与技 术，这些制造技术很难通过单个IPC 分类或者 IPC 组合对其进行界定.因此本文首先建立技术领域分类 体系，并就每一个细分的技术领域选择特征关键词;基于改进的词汇查询方法，制定基于关键词的专利检 收稿日期: 2014-12-18; 修改日期: 2015 -û3-23. 基金项目:国家自然科学基金面上项目我国专利申请量增长的影响因素及动力机制研究 ;国家国际科技合作专项项 目应对气候变化南南科技合作监测系统构建