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采用实时的气流监测和控制来改进刻蚀工艺的性能 - 半导体科技
Semiconductor Manufacturing
A P C
IC
MFC
45nm
MFC
GFM
Replacement NIST control and data
wetted part traceable collection system
volume MFC
1%
2 sccm
Inlet Purge
valve valve
0.5% Valve 10%-30%
and RTD
1 % (resistance
thermal Flow control system
device)
Regulator Pressure Valve MFC
gauge
Regulator isolated volume
RIE 1. (GFM) MFC
/Pivotal Systems
MFC
IBM BEOL
MFC
5
MFC
Mukund Venkatesh, Joseph Monkowski,
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