AlCoCrCu NiFe 高熵合金氧化物薄膜光学特性的研究 - 表面技术.PDF

第45卷摇 第2期 摇 摇 摇 表面技术 摇 摇 2016年02月 SURFACE TECHNOLOGY ·129 · 試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試 AlCoCrCu NiFe高熵合金氧化物薄膜光学特性的研究 0.5 1 2 2 黄元盛 ,蔡铭洪 ,叶均蔚 (1.江门职业技术学院材料技术系,广东 江门529090; 2.新竹清华大学材料科学与工程系,台湾 新竹 300) 摘摇 要:目的摇 制备AlCoCrCu NiFe 高熵合金氧化物薄膜,并对其光学性能进行表征。 方法摇 使用磁控 0.5 溅射设备在单晶硅片和玻璃上制备AlCoCrCu NiFe 高熵合金氧化物薄膜,并对膜进行退火处理。 使用 0.5 椭圆偏振光谱仪对薄膜的光学特性进行分析。 结果摇 随着氧含量的增加,折射系数减小。 当光波长为 633 nm 时,折射系数为1.69~2.40。 当氧分压为10%,折射率色散曲线在475 nm和600 nm 处出现拐 点,在600 nm之后折射率随着波长的增大而逐渐减小。 当氧分压为30%时,折射率曲线在500 nm和 600 nm处出现拐点,在600 nm后折射率趋于稳定。 当氧分压为50%时,折射率曲线在525 nm 处出现拐 点,之后折射率随波长的增大而逐渐增大。 在450 ~550 nm 波段内,AlCoCrCu FeNi氧化物薄膜的吸收 0.5 系数随氧分压的增加而增加。 在550~850 nm 波段内,薄膜的吸收系数随工作气压的变化趋势不明显。 随着氧分压的增加膜的颜色逐渐变深。 经过退火处理后,膜的颜色进一步加深。 在相同工艺参数的情况 下,氧的分压增加,膜厚减小。 结论摇 适当减小氧分压,能获得具有高折射率的AlCoCrCu FeNi氧化物 0.5 薄膜。 不同的分压下,AlCoCrCu FeNi氧化物薄膜的吸收系数随波长的增加均存在一个拐点,并且随氧 0.5 分压的增加,拐点的波长减小。 氧含量增加导致氧化物薄膜厚度减小,颜色加深。 关键词:高熵合金;氧化物;薄膜;折射率;吸收系数;膜厚 中图分类号:TG174.444;O484.4摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2016)02鄄0129鄄05 DOI:10.16490/ j.cnki.issn.1001鄄3660.2016.02.020 Optical Properties of Sputtered Oxide Films of AlCoCrCu NiFe High鄄entropy Alloy 0.5 1 2 2