电纺直写纳米纤维在图案化基底的定位沉积 - 光学精密工程.pdf

第 卷 第 期 光学 精密工程 １８ １０ 　 Ｖｏｌ．１８ Ｎｏ．１０ 　 　 　　　　　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２０１０ １０ Ｏｃｔ．２０１０ 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２０１０１０２２３１０８ 　 电纺直写纳米纤维在图案化基底的定位沉积 ， １２ １ １ １ 李文望 ，郑高峰 ，王 翔 ，孙道恒 　 （ 厦门大学 机电工程系，福建 厦门 ； 厦门理工学院 机械工程系，福建 厦门 ） １． ３６１００５２． ３６１００５ 摘要：为进一步提高单根电纺丝纳米纤维的定位沉积和形貌控制水平，基于近场静电纺丝技术，研究了单根直写纳米纤 维在无图案硅基底的沉积行为；仿真分析了图案化硅基底上方的空间电场分布；采用图案化硅基底作为收集板，实验考 察了微图案形状、收集运动速度等因素对单根纳米纤维定位沉积的影响规律。实验结果显示，电纺直写技术具有良好的 定位精度，可将直径为 １００ ８００ｎｍ的纳米纤维精确定位于直径仅为 １．６ ｍ的圆形微图案阵列上表面；收集板运动速 ～ μ 度较小时，受电场力影响纳米纤维沉积轨迹将朝微图案偏移 ７ ｍ；收集板运动速度进一步减小时，纳米纤维在基底微图 μ 案附近或上表面产生聚集；长条形微图案对纳米纤维沉积过程具有良好的引导与约束作用。得到的结果表明，基于近场 静电纺丝的直写技术可较好地实现单根纳米纤维在图案化硅基底的精确定位沉积。 关 键 词：近场静电纺丝；纳米纤维；定位沉积 　 　 中图分类号： ； 文献标识码： ： ／ ＴＮ４０５ＴＳ１０１．３２ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＯＰＥ２２３１ 　　 　　 犘狅狊犻狋犻狅狀犱犲狅狊犻狋犻狅狀狅犳犲犾犲犮狋狉狅狊犻狀狀犻狀 犱犻狉犲犮狋狑狉犻狋犻狀 狆 狆 犵 犵 狀犪狀狅犳犻犫犲狉狅狀 犪狋狋犲狉狀狊狌犫狊狋狉犪狋犲 狆 ， １２ １ １ １ ， ， ， ＬＩＷｅｎｗａｎ ＺＨＥＮＧＧａｏｆｅｎ ＷＡＮＧ