原创力文档- 1、本文档共4页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
新型光学薄膜研究及发展现状 - 武汉理工大学学报
24 2 武 汉 理 工 大 学 学 报 Vol. 24 No . 2
2002 2 JOURNALOF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Feb. 2002
: 1671-4431(2002) 02-0020-04
王学华 薛亦渝 赵 利 张幼陵
( )
: 综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软X 射线 层膜、太阳能选择
性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况, 并对光学薄膜的研究进行了展望。
: 光学薄膜; 研究进展
: O 484. 4 : A
, ,
,
X , ,
1
, ,
[ 13]
,
, ,
,
,
1. 1
, ,
Acton 1976 , 3 1 nm
99% Acton 1978 ,
172 nm 193 nm 96%98%
[ 4]
, 3 0 nm( XeF) 308 nm( XeCl) 248 nm( KrF)
193 ( ) , 2 2 2- 2 3
nm ArF ZrO HrO ZrO Y O
, 2 3 248 193 , 2 ,
Al O nm nm SiO
, 99. 7%99. %98% 96% ,
: ( ZrO2+ Y2O3) / SiO2 ZrO2/ SiO2 HrO2/ SiO2
,
, -
sol gel
SiO2 , , SiO2
: 2001-09-26.
: ( 1976-) , , ; , ( 430070) .
24 2 : 21
2 3 0 98% ,
SiO nm
99% 2 ( )
SiO ICF X
, ,
4 2
ThF , , , , ZrO MgO
2 ; 2 2 ; 2 2 2
SiO T iO ZrO MgF CaF ZnF
2 3 2 3 3 2
文档评论（0）