新型光学薄膜研究及发展现状 - 武汉理工大学学报.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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新型光学薄膜研究及发展现状 - 武汉理工大学学报

24 2 武　汉　理　工　大　学　学　报 Vol. 24　No . 2 2002 2 JOURNALOF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 　Feb. 2002 : 1671-4431(2002) 02-0020-04 王学华　薛亦渝　赵　利　张幼陵 ( ) :　综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软X 射线层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况, 并对光学薄膜的研究进行了展望。 :　光学薄膜; 　研究进展 :　O 484. 4 :　A , , , X , , 1 , , [ 13] , , , , , 1. 1 , , Acton 1976 , 3 1 nm 99% Acton 1978 , 172 nm 193 nm 96%98% [ 4] , 3 0 nm( XeF) 308 nm( XeCl) 248 nm( KrF) 193 ( ) , 2 2 2- 2 3 nm ArF ZrO HrO ZrO Y O , 2 3 248 193 , 2 , Al O nm nm SiO , 99. 7%99. %98% 96% , : ( ZrO2+ Y2O3) / SiO2 ZrO2/ SiO2 HrO2/ SiO2 , , - sol gel SiO2 , , SiO2 : 2001-09-26. : ( 1976-) , , ; , ( 430070) . 24 2 : 21 2 3 0 98% , SiO nm 99% 2 ( ) SiO ICF X , , 4 2 ThF , , , , ZrO MgO 2 ; 2 2 ; 2 2 2 SiO T iO ZrO MgF CaF ZnF 2 3 2 3 3 2