用显微喇曼扫描成像(mapping) 法测集成电路中cosi2 电极引起的应力3.pdfVIP

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  • 2017-09-06 发布于天津
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用显微喇曼扫描成像(mapping) 法测集成电路中cosi2 电极引起的应力3.pdf

第卷第期半导体学报年月用显微喇曼扫描成像法测集成电路中电极引起的应力李碧波黄福敏张树霖北京大学物理系北京高玉芝张利春北京大学微电子所北京摘要本文用显微喇曼光谱方法在尺度上对集成电路中由多晶硅衬底上生长所引起的应力进行了测量并对这种应力的类型和大小与含有的电路结构间的关系做了研究结果表明所引起的应力为压应力其大小随着面积的减小而增大在边界处的应力与区域中心处的应力类型相反数值大一倍由于制作基集成电路过程中充当绝缘层或者用作欧姆接触电极的材料有时在晶格常数上会和存在差异造成两种材料的晶格不匹配加上不

 第 19 卷第 4 期        半 导 体 学 报         . 19, . 4  V o l N o  1998 年 4 月              . , 1998  CH IN E

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