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电化学人工龋的电化学腐蚀机制研究
第 24 卷第 7 期 第 三 军 医 大 学 学 报 Vol. 24 , No. 7
2002 年 7 月 ACTA ACADEMIAE MEDICINAE MILITARIS TERTIAE Jul. 2002 851
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文章编号 2002 论著
电化学人工龋的电化学腐蚀机制研究
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邵 方 ,李明春 ,杨 军 第三军医大学 : 基础医学部化学教研室 ; 附属西南医院口腔科 ,重庆 400038
提 要 : 目的 研究电化学人工龋的电化学腐蚀机制。方法 采用循环伏安法研究牙片电极在 K SO 溶液中的氧化还原反
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应 ; 以失重法并结合 SPSS 统计软件统计分析 ,评价牙片在 KCl 和 K SO 介质中恒电位腐蚀情况 ,并现场监测电解液氢离子浓度的变
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化情况。结果 在 00～25 V 电位范围内,牙片电极与石墨电极具有波形类似的循环伏安曲线 ;在 KCl 和 K SO 介质中牙片的腐蚀
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速度无显著差异 ;20 V 恒电位腐蚀牙片 8 h 后 , 阳极池本体溶液pH 值由 70 平均下降到 387 ,阴极池则由 70 平均升高到 1065 。
结论 在外电场作用下 ,牙片的阳极腐蚀与介质无关 ;水的阳极氧化引起阳极区氢离子浓度升高 ,致使牙齿发生酸溶是电化学人工
龋形成的主要决定因素。
关键词 : 龋齿 ; 电化学;腐蚀机制
中图法分类号 : R781. 102 ;TG172 文献标识码 : A
Investigation on electrochemical corrosion mechanism of electrochemistryinduced den
tal caries
SHAO Fang ,LI Mingchun ,YANGJun (Department of Chemistry ,Third Military Medical University , Chongqing 400038 ,China)
Abstract : Objective To investigate the electrochemical corrosion mechanism in an artificially electroc
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