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* * b. 用四氧化锇(OsO4)为氧化剂,这是将烯烃氧化为顺-二羟基化最可能的方法 但是因为四氧化锇的价格昂贵,又有毒,故近来都使用催化量,而配合其他的氧化剂作用 * c. 以碘及湿的醋酸为氧化剂,用这种方法可以获得空间位阻较大一面的顺式-邻二醇 * 邻二醇化合物以高碘酸HIO4处理,则得到两个羰基 * 烯烃类化合物的氧化性切断 进行此种类反应通常用高锰酸钾-高碘酸钠的混合氧化剂,或使用臭氧 a. 使用KMnO4-NaIO4混合氧化剂,利用KMnO4将烯烃类转变成二醇类,再用NaIO4将醇类氧化物切断,并进一步氧化成为羧酸。由于KMnO4作用后产生的MnO2可以被NaIO4氧化回到KMnO4,故只需使用催化剂量的KMnO4 * 若改用 OsO4 - NaIO4 为混合氧化剂(OsO4为催化剂量),则可以得到醛类(通常以 2,4-二硝苯腙的衍生物分离) * b. 臭氧化反应(Ozonolysis): 臭氧是很强的氧化剂,即使在低温下也能和烯类作用,产生臭氧化物(Ozonide) 此时若添加氧化剂 H2O2,使臭氧化物转变为羧酸或酮类 添加弱还原剂,如(CH3)2S,Zn,Ph3P,KI使臭氧化物转变成为酮或醛类 * 7.3 保护基团在有机合成中的应用 * 对官能团进行保护的主要用途有: (1)提高反应的区域选择性 (2)提高反应的立体选择性 (3)有利于反应产物的分离 对理想的保护基团,应符合下述要求: (1)该基团可在温和条件下引入 (2)该基团在化合物其它反应中心进行转换所需的反应条件下和后处理过程中应是稳定的 (3)该基团在温和条件下应可以选择性地除去 (4)去保护过程产生的副产物应该容易除去 * 醇、酚羟基的保护 1. 保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR′) 或酯类(ROCOR′),缩醛或缩酮类。前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性 a.形成甲醚类 ROCH3 可以用碱脱去醇ROH质子,再与合成子 +CH3作用,如使用试剂NaH/Me2SO4。也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应,如使用 Ag2O/MeI;但对三级醇不宜使用这一方法。醇类也可与重氮甲烷CH2N2,在Lewis酸(如BF3·Et2O)催化下形成甲醚. 酚甲醚较易除去,常用于酚羟基的保护。常用去保护试剂有三甲基碘硅烷-二氯甲烷和三溴化硼-二氯甲烷 * b. 甲基硅醚(TMS)及其它硅醚保护基 硅醚保护-- Me3Si(TMS), Et3Si(TES), t-BuMe2Si(TBDMS), t-BuPh2Si(TBDPS), i-Pr3Si(TIPS). * 脱保护常用氟试剂,如:氟化氢水溶液、氟化四丁铵 Bu4NF = TBAF ROSi(CH3)3 在酸中不稳定,遇水分解,应保持无水环境。可以与亲核试剂反应,如格氏试剂,氢化反应,氢化物还原都会影响,因此它属于暂时羟基保护,水处理后即分解。常用酸或碱的水溶液水解 ROSi(CH2CH3)3三乙基硅醚稳定性增加,遇水稳定性提高 ROSi(iPr)3,ROTIPS三异丙基硅醚是由三异丙基氯硅烷硅烷化羟基制得,催化剂是咪唑或二甲氨吡啶。其稳定性比三甲基硅醚高得多,可用于亲核反应、有机金属试剂、氢化还原、氢化物还原和氧化反应等。 ROSi(Me2)Bu,ROTBS叔丁基二甲基硅醚是较稳定硅醚。在pH=4—12范围稳定。叔丁基二甲基硅醚能适合于亲核反应、有机金试剂,氢化还原、氢化物还原和氧化反应等条件下的羟基保护。由于基团位阻较大,可用于选择性保护羟基 * * c. 苄基醚(Bn)保护基 苄基醚的稳定性与甲基醚类似,对于多数酸和碱以及氧化剂都非常稳定,形成保护的反应条件也温和,操作简单,作为反应物的苄基溴或者苄基氯便宜易得 苄醚的去保护主要有二种途径:一是催化氢解,常用10% Pd-C做催化剂;另一是用钠氨溶液或锂氨溶液进行还原 d.三苯甲基醚 三苯甲基醚在糖、核苷和甘油酯化学中广泛的用来保护一级羟基,它的最大优点是在多羟基化合物中选择性的保护伯醇羟基 制备时,以(单或二取代)三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用,而以 4-二甲胺基吡啶(4-dimethyl aminopyridine, DMAP)为催化剂 脱去时用酸反应,或锂金属处理 * * 2. 缩醛和缩酮类衍生物 a. 四氢吡喃醚(THP)保护基 使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用制备 欲回收恢复到醇类时,则在酸性水溶液中进行水解,即可脱去保护基团 有机合成中常引用这种保护基团,其缺点是增加一个不对称碳(缩酮上的碳原子),使得NMR谱的解析较复杂。 * 多羟基化合物中,同时保护两个羟基通常使用羰基化合物丙酮或苯甲醛与醇羟基作用,生成环状的缩
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