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螺纹的防渗碳与漏渗碳处理
表 2 磁性能对比
Table 2 Compare of magnetic properties
钢片厚/ mm P 10/ 50/ W ·kg - 1 P 1/ k/ W ·kg - 1 B25 T
未涂样 涂层样 未涂样 涂层样 未涂样 涂层样
0 10 2 250 1200
0 10 2 000 0 900 0 981 16 14
0 10 1760 0 695 159 0 68 135 1 177 1
0 10 1180 0 692 129 0 70
图4 渗硅层 X 射线衍射分析 0 10 103 1 0 725 120 0 79
Fig. 4 Xray diffraction of p attern of film infusing Si 0 10 0 850 0 689 092 0 64
由图可见 ,硅涂层最表层为 FeSi 金属键化合物 ,往里为 10μ
m 以上 ,并有非晶体形成 ,能满足 0 1mm 厚钢片达 65 %
α
硅溶于 Fe 的固溶体 。表层有非晶态出现 。该化合物层厚 Si 的要求 ,与相同底 Si 的无取向硅钢片相比 ,铁损 P10/ 50 降低
度只要超过 10μ
m ,对 0 1mm 厚 、底 Si 含量为 30 % 的钢片 , 50 %以上 ,其它磁性能也大有改善 。
其增硅量可达 15 % 以上 ,平均含硅量可达 4 5 % , 约 35μ
m 参考文献 :
厚 ,而表层其含硅量超过 65 % ,磁性能即可达最佳 。对 0 1 [ 1] 何忠治. 电工钢[ M ] . 北京 :冶金工业出版社 ,1997 :72838 .
～0 3mm 厚 、底 Si 为 3 %的钢片 ,经涂层退火后 ,进行了部分 [2 ] 王向成 ,等译. 国外钢铁技术译文集《高硅钢专集》[ M ] . 武汉钢
磁性能对比测试结果见表 2 。 铁技术情报研究所 ,1993 .
结果表明:450～600 ℃范围内, 随涂层温度升高 ,涂层速 [3 ] 小昭光晴. 等离子体成膜基础 [ M ] . 北京 : 国防工业 出版社 ,
度降低 ,增
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