介绍电容式触摸屏光阻特性及应用实例Photoresist’s Characteristic and Its application in touch sensor.pdf

Introduction to Photoresist’s Characteristic and an Example of Application in Capacitive Touch Sensors Prepared by : Dr Saludin PI characteristic and its application Content : Introduction Polyimide / PI Microlithography and Theory Photoresist Critical Parameters Characteristic of PR Its Application in Touch Sensor/ an example 主要从以下六个方面来介绍 前两项是简单介绍PI的种类，特性。合成方法及发展历史等 第三项介绍PI 曝光显影理论 第四项介绍影响光阻的关键参数 第五项是光阻本身的一些特性 第六项介绍一些应用实例 Introduction Photosensitive Polyimide (PSPI) is a kind of organic polymer materials with thiamine group, the molecules main chain is rigidity and high intermolecular forces. Mostly in the market provide photoresist such as Positive type : DNQ Negatif type : KTFR 感光性聚亚酰胺（PSPI）是一种含有亚酰胺基的有机高分子材料，其分子主链 具有很高的刚硬度以及很强的分子作用力。 目前生产中有两种类型的光阻： 一 正性光阻： DNQ型(重氮萘醌) 二负性光阻：（KTFR）型 It has excellent properties such as : -Low dielectric constant -Low Young’s modulus -High chemical resistance -Good thermal stability -Flat surface 聚亚酰胺具备许多优异的性质，如： 低介电常数 低杨氏模量 高化学阻抗 优异的热稳定性 表面平坦化 Traditional Positive sensitive polyimide polyimide Main process between traditional polyimide and positive sensitive polyimide 其实早期的传统的聚 亚酰胺也像现在我们 厂内的ITO Metal等制 程，需要先涂布一层 PR通过光罩将图形转 移到PR上然后再把底 层的聚亚酰胺吃掉才 能得到线路图； 而感光性聚亚酰胺（PSPI）就是现在 我们厂内应用的它可直接通过曝光显