刻蚀衍射光栅解复用器的偏振色散分析.pdfVIP

第 26 卷 　第 1 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol. 26 　No. 1 2005 年 1 月 　　 CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS 　　Jan. ,2005 刻蚀衍射光栅解复用器的偏振色散分析 庞冬青 　宋 　军 　何赛灵 (浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 , 光及电磁波研究中心 , 光通信联合实验室 , 杭州 　310027) 摘要 : 介绍了一种将矩量法应用于刻蚀衍射光栅解复用器设计分析的偏振敏感型方法. 通过数值分析 ,证明提供 的方法在分析器件色散响应方面比传统的标量方法更加接近实测结果. 分析了器件的偏振独立损耗和偏振色散差 随入射角和衍射级的变化关系 ,指出器件结构参数的确定应以满足偏振色散差的实际需要为主 ,而在考查通道均 匀性方面则应该着重考虑结构参数对偏振独立损耗特性的影响. 关键词 : 波分复用 ; 解复用器 ; 刻蚀衍射光栅 ; 矩量法 ; 色散 ; 偏振 EEACC : 4130 ; 4140 ( ) 中图分类号: TN8146 　　　文献标识码 : A 　　　文章编号 : 2005 于无限周期性光栅 ,而无法分析具有变周期凹面结 1 　引言 构的 EDG 器件. 另外 , 由于器件具有大的自由扩散 ( ) 区 FPR ,也无法用计算时间强烈受限于计算区域 ( ) ( ) 近年来光通信飞速发展 ,波分复用技术 WDM 的时域有限差分方法 FDTD 进行分析. 是解决信息容量需求的有效手段. 作为波分复用技 为了提高 EDG 光栅的衍射效率 ,通常在光栅的 术中最关键的器件 ,平面波导密集波分复用器件是 ( ) 背面镀一层金属 如银等 , 因此 EDG 的光栅可以近 很有发展潜力的. 其中最重要的有阵列波导光栅 似于一个理想的金属光栅. 对于此类光栅 ,矩量法 ( ) [1 ] ( ) [2 ] ( ) AWG 和刻蚀衍射光栅 EDG 两种. 随着深刻 MoM 是一种非常简单而又有效的偏振敏感型分析 蚀技术的日益成熟 , EDG 器件以其结构紧凑和比 方法. 本文将矩量法引入 EDG 器件的设计分析 , 能 AWG 器件更优越的频谱性能日益得到广泛的应用. 够在较短时间内对两种偏振的性能做出准确分析. 在通常的 EDG 器件的设计过程中 ,标量衍射因 特别针对传统标量衍射方法在分析器件相位响应方 为简单快速而成为非常流行的设计方法[3～6 ] . 但是 面存在的不足 , 以 MoM 方法分析了器件的色散响 该方法不能准确地反应具体光栅面形的衍射效率差 应 ,结果证明现在的方法能够更加准确地分析器件 别