磁控溅射卷绕镀膜设备运行监控系统的设计与实现.docVIP

　　磁控溅射卷绕镀膜设备运行监控系统的设计与实现 第1章 绪 论 1.1课题概述 在许多领域作为一种非常有效的薄膜沉积方法被普遍和成功地应用（如材料表面处理、光学薄膜和微电子等）[1]。产品在航天、生物以及航空等众多领域得到了广泛应用，其中有些产品属于美国等西方国家对我国禁运的高技术产品。十九世纪五十年代 Grove 首次描述溅射(sputtering)这种物理现象，这种物理现象到了上世纪 40 年代作为一种镀膜技术进而得到了应用和发展[2](见图1.1)。随着电子器件的小型化和轻便化，特别是 2007 年由史蒂夫 乔布斯为首席执行官的苹果公司创造性地推出了 iPhone ，彻底改变了人们对的认识和使用习惯，与此同时也使得柔性衬底的透明导电薄膜的制备技术引起了人们的广泛关注。目前柔性衬底透明导电薄膜都是通过磁控溅射的镀膜工艺实现的，磁控溅射卷绕镀膜设备是制备柔性衬底透明导电薄膜的核心装备。磁控溅射卷绕镀膜设备运行监控技术是制备高品质柔性透明导电薄膜的极其重要的关键技术之一。我国有专业生产卷绕镀膜设备的设备厂家，目前生产的卷绕镀膜设备绝大多数是采用真空蒸发技术的卷绕镀膜设备（见图 1.2），主要应用于包装行业。在应用技术相对先进的磁控溅射技术的卷绕镀膜设备研制方面，虽然自上世纪70 年末我国在引进设备的基础上也开始进行仿制，如借鉴日本真空株式会社的设备构造、将感应蒸发装置改换成磁控溅射系统进行研制磁控溅射卷绕镀膜设备，研制出来的小型磁控溅射卷绕镀膜机获得成功，如当时的锦州真空设备总厂的磁控溅射卷绕镀膜机被成功地应用于镀铝PET薄膜产品和金银丝线产品的生产中，但这些镀膜产品都属于性能要求不高的低端产品，这些产品对制备工艺和卷绕镀膜设备的技术要求低，而且仿制的设备幅宽比较小，技术难度相对低。生产诸如用于包装行业用的常规低端镀膜产品对设备的性能要求不高，真空蒸发卷绕镀膜的产品已经能很好地满足使用要求。同时，由于工艺的原因磁控溅射卷绕镀膜的生产效率与真空蒸发卷绕镀膜相比较低，因此磁控溅射卷绕镀膜工艺没有竞争优势，这就导致磁控溅射卷绕镀膜设备没有市场需求。由于当时国内没有研制高性能产品的需求拉动，所以国内对磁控溅射卷绕镀膜工艺及设备的研究非常少，仅局限于研究高性能柔性薄膜表面镀膜技术的少数几个专业研究所。 1.2课题的研究背景和技术应用现状 磁控溅射卷绕镀膜设备的运行监控系统属于工业过程自动化控制系统，它是由运行监控软件和与之配套的测量、控制硬件单元组成的，实施的是自动化的产品生产过程控制的功能。生产过程控制(production process control)在质量管理体系中的定义是：对影响产品质量的生产、安装及服务过程中的作业技术和生产过程所进行的所有的分析、诊断和监控。无论这种影响是直接还是间接的，目的就是为了确保生产过程处于受控状态[3, 4]。只要有产品生产就会有保证产品最终质量的生产过程控制的手段和技术，不同的产品有不尽相同的生产流程和与之相应的生产过程控制，当然过程控制有简有繁，工序简单的产品过程控制相对简单。随着第三次工业革命（图 1.4）（又称第三次科技革命[5]）的到来，上世纪70 年代，电子元器件的微型化技术获得了迅猛发展，微处理器的出现在提高计算能力的基础上，大大降低了计算机的硬件成本，同时也缩小了计算机的体积。很多从事控制仪器仪表的公司陆续推出了应用于生产过程控制中的新型控制系统工业过程自动化控制系统。 第2章 运行监控系统软件总体设计 由于高性能磁控溅射卷绕镀膜设备是一套由多个分系统组合而成的较为复杂的设备，因此对设备的运行监控系统操作的控制精度与动态响应速度都有较高的要求。同时，因为各个分系统采用的控制单元的运行系统平台会有所不同，所以要求设备的运行控制系统能在不同平台( Control Soft，SCSP)。系统的总体设计是整个系统的核心。总体设计的可行性、可靠性、正确性等因素直接决定了系统功能的完整性、可拓展性，并直接影响到系统的实时性和运行效率等性能指标。与其他软件开发一样，在设计平台化软件的总体结构前，首先需要确定平台化控制软件自身的特点、实现的基本功能，并需要结合磁控溅射卷绕镀膜工艺的实际需求，制定完善、合理、有效的设计方案。 2.1 平台化控制系统软件的特点 平台化控制软件与传统工业控制软件如组态[24]软件相比，具有其自身的特点 1）通用性：软件可以满足一切流程化项目的需求，不针对单一项目定制； 2）可视化可编辑:不同项目有不同的测控流程及界面需求，平台化软件可以通过可视化的编辑窗口让用户自由编辑满足不同项目的需求； 3）仿真功能:在工业自动化领域，在项目设计阶段或实施阶段硬件设备没有安装到位的情况下，设计者们更愿意通过物理模型模拟实际生产流程用以优化设计或流程，平台化控制系统软件为用户提供了