聚苯乙烯一维纳米阵列的图案化.pdfVIP

助 材 料 2008年第11期(39)卷 聚苯 乙烯一维纳米阵列的图案化 邵增军，彭 智，宋国君 ，姜 宁，王树龙 (青岛大学 高分子材料研究所，山东 青岛266071) 摘 要： 采用紫外线光刻技术在 阳极氧化铝模板 2 实 验 (AAO)上生成预设图案，用物理浸润的方法在图案化 的模板上生长聚苯乙烯，最后用NaOH和磷铬酸溶液 2．1 AAO模板的图案化 分别溶解模板。采用扫描 电子显微镜 (SEM)和电子能 阳极氧化铝模板的清洗 ：将 AAO模板在丙酮 中 谱(EDS)分析 。结果表明，制备的图案是直径 5txm 的 超声波振荡，以除去孔 内表面污渍，然后将模板晾干 ， 圆形组成，圆形图案 中心之间距离是 10m，每个圆中 备用。匀胶：室温下在模板的表面进行匀胶实验，光刻 长满一维纳米阵列，其纳米特性没有变化。 胶用量分别为 0．2和 0．3ml。前烘 ：于 9O℃干燥带胶 关键词： 紫外光 ；苯 乙烯 ；一维纳米结构；光刻胶；图 AAO模板 15min。曝光：用中心波长为365nm 的紫外 案化模板 灯曝光用掩模覆盖的样 品 lmin。坚膜：将曝光后 的样 中图分类号 ： TB383 文献标识码：A 品放人干燥箱于 9O℃干燥 15min。显影：将所得样品 文章编号：1001-9731(2008)11-1890-04 在显影液中显影 20s以除去被曝光部分 。洗涤：最后 用去离子水清洗样品，并用氮气吹干。在修饰后的模 1 引 言 板表面滴上水滴，若水滴能够漏过去，说明制得的图案 随着纳米技术的发展，小型或微型图案化器件(如 化的 AAO模板是通孔的，否则不是通孔的。滴水实 流体纳米器件和微反应器[1]、微电子领域 中的集成电 验证明当光刻胶用量为0．2ml时，模板是通孔的；当光 路[、芯片加工厂[3I‘等)的重要性在微电子、光学、微 刻胶用量为0．3ml时，模板是没有通孔的。 分析、微机械、细胞生物学等领域得到越来越充分的体 2．2 图案化纳米线阵列的制备 现[5]。目前，已通过多种微加工技术制备了多种材质 高分子溶液的配制：将PS溶于三氯甲烷中，配制 的图案化结构[6~103。 10．0 (质量分数)的溶液，备用。采用溶液法以图案 与硅片类似，AAO是一种非常好的一维纳米材料 化的AAO模板为二次模板制备图案化的PS纳米线。 制作模板 。它廉价易得，孔径大小可调，在其 中可方便 将 0．02ml的溶液滴在载玻片上，以带胶面向下放 地制备功能聚合物或金属纳米线、管等一维纳米结 在PS液滴上，生长纳米线。30s后终止实验，用双面 构[1卜¨]，在此基础上制备的纳米器件也有较好的性 胶将其固定在载玻片上。 能，因此不断有人尝试基于 AAO模板制作纳米器 NaOH溶解模板：再用 3．Omol／L的水溶液浸泡 件[1“]。然而，与基于硅片的器件制作不同，现有的基 以除去AAO模板和光刻胶 ，即得图案化的PS纳米线 于AA0模板的纳米器件制作还很简单，还无法制得 阵列 功能复杂的微小器件或阵列。若能任意在 AAO上制 磷铬酸溶解模板：用质量份数为 1．8 铬酸和 作出各种功能单元，仅在需要的位置生长纳米管、线或 6．0 磷酸的混合液，在4o℃下分别部分