流动电流沿水厂工艺的变化研究.pdfVIP

第 31卷 第 11期 诧尉 敢求 V01．31 No．11 2008年 11月 EnvironmentalScience Technology Nov． 2008 流动电流沿水厂工艺的变化研究 宗栋 良 ， 张锡辉 ， 张光明 (1．深圳市水质检测中心，广东 深圳 518036；2．清华大学深圳研究生院环境工程与管理研究中心，广东 深圳 518057) 摘 要：在水厂现场，以流动电流为主线对净水工艺进行了分析。结果显示，流动电流对混凝和滤床过滤的运行工况有类似的决定作用， 加药混合之后胶体颗粒的流动电流值不再随后续工艺而有大的变化，因此投加混凝剂保持混凝单元操作的最佳状况，也有利于过滤单元的 运行。 关键词：流动电流； 水厂； 工艺 中图分类号：x7o3 文献标志码 ：A 文章编号：lOO3-65o4(2oo8)1l-o086-03 VariationofStreamingCurrentAlongW aterTreatmentProcess ZONGDong-liang，‘ ZHANGXi-hui， ZHANG Guang-ming (1．ShenzhenWaterQualityTestingCenter，Shenzhen518036，China；2．ResearchCenterforEnvironmentalEngineering ＆Management，GraduateSchoolatShenzhen，TinghHaUniversity，Shengzhen518057，China) Abstract：Inawaterplant，streamingcurrentwasmonitoredalongwaterrteatmentprocesschain．Theresultsshowedthat srteaming currenthada similarinfuenceon deciding hteworking efficiency ofcoagulation and filtration．Thestreaming currentvalue wasnotvaried lragely inthe subsequentprocessofsedimentationnad filtration．Thuskeeping hteoptimum dosageincoagulationnadflocculationwouldalsobeinfavoroffiltration． Keywords：srteamingcurrent；waterplnat；process 胶体化学理论认为胶体颗粒的稳定性与其 Zeta 混合池 内以电动机驱动搅拌器对加过药剂的原水进 电位的大小有密切关系，即Zeta电位较高的体系，质 行搅拌。搅拌器的搅拌速度可以根据进水流量和浊度 点间排斥力较大，不易发生聚沉，处于相对稳定状态 ； 变化所要求的混合G值来调节。 而Zeta电位较低的体系，质点问排斥力较小，不稳定， 反应工艺采用三段竖流式栅条絮凝池，在竖井 容易发生聚沉；在等电点即Zeta电位为零时，质点问 中设置栅条，每个井中的栅条数量不等，起始段较 排斥力最小，胶体稳定性最低，也最容易发生聚沉。因 多，末端较少。水流流过栅条时，产生缩放作用 ，形 此，传统胶体化学认为Zeta电位是影响胶体稳定性的 成漩涡，促使颗粒产生碰撞。絮凝池设计停留时间 主要因素l】I。 为 12min。 鉴于流动电流 (StreamingCurrent，SC)与Zeta电 沉淀工艺采用平流式沉淀池，以多道穿孔花墙均 位的线性关系 ，本文以流动电流为主要参数，以深 匀布水，集水方式为指型槽，排泥采用虹吸排泥机。平 圳某水厂为研究对象，实际调查SC随整个工艺流程