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乙烯基倍半硅氧烷的结构及其膜材料的性能
第36卷第8期 哈尔滨工业大学学报 V01．36No．8
20O4年8月 Aug．，2004
JOURNALOFHARBININSTITUTEOFTECHNOLOGY
乙烯基倍半硅氧烷的结构及其膜材料的性能
张兴文1”，胡立江1，孙德智2
2．哈尔滨工业大学环境科学与工程系，黑龙江哈尔滨150001)
摘要：以乙烯基三甲氧基硅烷(VMs)和正硅酸四乙酯(TE0s)为原料，利用溶胶一凝胶法制备了乙烯基倍
通过红外光谱和质谱对Vs的结构进行了表征．用扫描探针电镜、扫描电镜研究了膜的形貌及其膜厚，并通
过Dsc、TGA、纳米压痕测试及腐蚀试验，对Vs和VsT杂化膜的热力学、力学及防腐性能进行了研究．结果表
明：合成的VS是含多羟基的低聚物，VST杂化膜的疋可达129．8℃，热失重温度337．5℃，耐电化学腐蚀，
训(TEOS)=20％杂化膜体系的性能最佳．
关键词：溶胶一凝胶法；有机一无机杂化材料；乙烯基三甲氧基硅烷；正硅酸乙酯
中图分类号：TQ314．2 文献标识码：A 文章编号：0367—6234(2004)08一1055—04
onstmctIlresand of mmbased
Study propertiescoating
on deI喧ved
snsesqllioxanes
2
ZHANG De—zhi
Xing．wenl”，HULioian91，SUN
Institute
(1．Dept．ofAppliedChemistry，Harbinof‰hnology，Harbin
Envimnment Instituteof
2．Dept．of en西neering，H砌．binTechnology，Harbin150001，China)
derivedf．rom condensationof
Abstract：Vinyl—silsesquioxanes(VS)hydmlytic
andmodifiedwith VSstmcturalchar_
tetraethoxysilane(TEOS)(VST)werepreparedbysol—gelprocess．The
acteristicswereidentified matrix_assistedlaser
byFouriertransfo珊i‰d(n1IR)and
mass o彻osilthinfilmsbasedonVSand
MS)．The VST(m—VS
time—of-nightspectmmetry(MALDI—TOF
and coated the method．7rhe andthicknessofthefilmwas
m-VsT)were
on舀assby dip—coating mo叩holog)r
characterizedwitha electmn
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