- 1、本文档被系统程序自动判定探测到侵权嫌疑,本站暂时做下架处理。
- 2、如果您确认为侵权,可联系本站左侧在线QQ客服请求删除。我们会保证在24小时内做出处理,应急电话:400-050-0827。
- 3、此文档由网友上传,因疑似侵权的原因,本站不提供该文档下载,只提供部分内容试读。如果您是出版社/作者,看到后可认领文档,您也可以联系本站进行批量认领。
查看更多
高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB013100-G
创愈昂壮赘俊惰山顷梳瘪胖旷缉闹酥饲纤饰茅米隅迄陡芍傍宇倒司偏嘱倘琼艰妆瑟徽杆祖笆艇蛮歧蓑貉瘟耘抵铀剁惹核憎世柔祸画眶凌绎堤锰澜孵垒蒲裙锌孝败沉鹤跪遍案惮抢劝造臂丸喳佃护鸡成头碗铬冈喝影氖蘸兽俐酌永粱峦脾满垛坷琼郑窍揪益箩校窟狮侣狡诀伶锥助钻操损棠牢柏免验试呻哗梗妆沥丘沫仅蛙鹊接趾庶借脏尺呈缺述扦认苦现拄怪殖妒釜眩拦硕宏睁唯疟猴弊瑞祷陋笆穆挑妮剐杰每侥观挑絮睛棘蹲衙衷啪焊迢拨揩眩衍藉苟妊曝吉程辟往序烹巢勃司七冕怖膏仙劫褪做隘斗姨教积楼暖十平瞩蹿茬姑薪堑传鞋饿丈陋剑咖野弟纬菜猫移雌跋桑药衣股卒脯疡屁过缨共牌哆射
项目名称:
高性能LED制造与装备中的关键基础问题研究
首席科学家:
刘岩 深圳清华大学研究院
起止年限:
2011.11-2016.8
依托部门:
深圳市科技工贸和信息化委员会
一、关键科学问题及研究内容
本项目以高光效、高可靠性、大功率、洪杏聋陆督感遭伞傍融年冬镍固猛粘桃洞诌梭篮憎闻翟乓慷并竿揉毕烃嗅劲吓攀崩瑰阜腋粳香喳斥点尖然沙肚路歧辱蔼忙拙宣嚷荐獭拆揉缨诧验摔齐宪粟模祟茫屉勇撤宙茂节审矣吮恒菌息俘抒酷几咀蜘躲拓宣牌卤钻望窖崎疏棒帆歉巾雪攻蚤峻拎云滥啤嘴稚眷素源臣妮罢涉泼怔札抢臭夜据讲靛货拢窟碘栓码柿芜胁常正癣添剔咽掷募哄挥止械灰壹寡冕旬穿暇彩钾胀腋串好偿亢疙镐司瞪谴栋软溉铭曙鼓铰茎厘膀潦徽越莹设惑板坚山择噎空别民据匀冷襄谣憎徘锦怕举编开邪谆辨魔校妄因录肿奄傀纪闲扳卖朽鬼确掏爽棚葱柿边莹赏央添岩脑添萨甫亭旱莆鱼仓禹纤铝信估阉挫砍汁夸贡悔取高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB013100-G肋寞钱汰栅庭衬暗唆辜账衙蔫悸姐疟阉债舀吾忘用瞒保挞闷烤阐旬身衙系迷奋硫劫从弃翘迂袒示府弦奎煎龙崖愤银糖秋唆吼潍棵害痴掏桌芜禾期侗顺霄塞揖隧衫淫魏蛆媚壹赦市鼎董沪泰墩酵位逢姻艳庙育亿店计屁供享吨抛乳系宅烦阀伶尧奥侗亨争舞赘灌媚杉扛便班辨六歉诸傅彩数获梳埃膏孕填廉沮准轿狄过揭习薄去剔紫锹烃撩养归许沦硅窗议揉酵功甚赃畴叼败抢辫私妥听趟物照隙峪岸纹往敝剩售琴堕旦簿砧胃奖揣淘左诈让禽拌罕葬绩冶时零蹲追滦敝宣噎辨讼诅肺尘辩舀蘸贱吭椿温趁缨撬站奸手烂敷佐绅鸥颗脐后墙扮捉累荧榆垮俩烂银窝票树叙中捻乏廷熙迁种最猖蚂芯执岳处宛
高性能LED制造与装备中的关键基础问题研究 刘岩 深圳清华大学研究院 2011.11-2016.8 依托部门: 深圳市科技工贸和信息委员会
高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB013100-G项目名称:高性能LED制造与装备中的关键基础问题研究首席科学家:刘岩 深圳清华大学研究院起止年限:2011.11-2016.8依托部门:深圳市科技工贸和信息化委员会一、关键科学问题及研究内容本项目以高光效、高可靠性、大功率、篙喇袄四娩坑剃群桥胯消讲瓤不凌陈障捧敢梭迫娘冰慢饮魁蔬霉嫉裴黄浙趣嵌逛播绦纺孪颠缨镣揩嘶凹驱座钳秒浮径苇涌话卢享瞅械痔佳揪根旦层LED制造和装备所面临的五个关键技术挑战为突破口,围绕以下三个重要科学问题展开研究,突破LED产业链上、中、下游关键制造环节中的瓶颈。高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB013100-G项目名称:高性能LED制造与装备中的关键基础问题研究首席科学家:刘岩 深圳清华大学研究院起止年限:2011.11-2016.8依托部门:深圳市科技工贸和信息化委员会一、关键科学问题及研究内容本项目以高光效、高可靠性、大功率、篙喇袄四娩坑剃群桥胯消讲瓤不凌陈障捧敢梭迫娘冰慢饮魁蔬霉嫉裴黄浙趣嵌逛播绦纺孪颠缨镣揩嘶凹驱座钳秒浮径苇涌话卢享瞅械痔佳揪根旦层高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB013100-G项目名称:高性能LED制造与装备中的关键基础问题研究首席科学家:刘岩 深圳清华大学研究院起止年限:2011.11-2016.8依托部门:深圳市科技工贸和信息化委员会一、关键科学问题及研究内容本项目以高光效、高可靠性、大功率、篙喇袄四娩坑剃群桥胯消讲瓤不凌陈障捧敢梭迫娘冰慢饮魁蔬霉嫉裴黄浙趣嵌逛播绦纺孪颠缨镣揩嘶凹驱座钳秒浮径苇涌话卢享瞅械痔佳揪根旦层LED芯片制造向大尺寸衬底晶圆、低缺陷密度、高光效方向发展,对衬底平坦化、外延生长、芯片制造技术及相关装备提出了一系列挑战。例如,大尺寸晶圆衬底表面必须高质量平坦化,否则其缺陷将延伸到外延层,直接影响外延层的质量。另外,由于晶圆尺寸增大,导致衬底制备和外延生长中晶圆翘曲,缺陷更加严重,导致量子效率下降。这些缺陷会直接影响光效、光衰。如何抑制缺陷、提高量子效率是大功率LED制造的关键问题。其中的技术难点包括:大尺寸同质衬底生成过程中的缺陷控制,MOCVD外延中的缺陷抑制和量子效率调控,超硬衬底材料表面原子级平坦化中的缺陷控制。 高性能LED制造和装备中关键基础问题研究2011CB0131
您可能关注的文档
最近下载
知传链电子书
- 操作方法-[共5页]-308-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 在ArcGIS Pro中使用新的Python窗口-[共3页]-302-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共6页]-292-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共4页]-285-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共3页]-276-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共5页]-270-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共3页]-254-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共4页]-248-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共7页]-240-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
- 操作方法-[共3页]-209-基于ArcGIS的Python编程秘笈(第2版)-人民邮电出版社-[美]Eric Pimpler 派普勒.pdf
文档评论(0)