衬底温度对ZnOAl薄膜结构和性能的影响 Effects of Substrate Temperature on Structure and Properties of ZnOAl Thin Films.pdfVIP

櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 ： ｄｏｉ １０３９６９／ ｊｉｓｓｎ１００３３５３ｘ２００９０７１２ 衬底温度对 薄膜结构和性能的影响 ＺｎＯ∶Ａｌ ， １ １ １ ２ １ １ 徐玮，于军，王晓晶，袁俊明，雷青松 （ 华中科技大学电子科学与技术系，武汉 ； １ ４３００７４ 湖北省光伏工程技术研究中心，武汉 ） ２ ４３００７４ ： （ ） 摘要利用射频磁控溅射法采用氧化锌铝９８％ＺｎＯ＋２％Ａｌ Ｏ 为靶材在普通载玻片上制 ２ ３ 备了 （ ）薄膜，研究了衬底温度对薄膜晶体结构，电学和光学性能的影响。利用 ＺＡＯ ＺｎＯ∶Ａｌ Ｘ 射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析，利用分光光度计和电阻测试仪分 别测试了薄膜的光电学性能。结果表明，衬底温度对薄膜结构及光电学性能影响最大。溅射功率 、衬底温度 工作气压 制得的薄膜具有良好的光电学性能可见光平均透过率、 （ １２０ Ｗ ３００ ℃ ０６ Ｐａ （ ， －２ ·）。 为 考虑衬底的影响电阻率为 ７９４９％ ４９９×１０ ｃｍ Ω 关键词磁控溅射陶瓷靶材电阻率透过率 薄膜 ： ； ； ； ；ＺＡＯ 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＮ３０５９２ Ａ １００３３５３Ｘ ２００９ ０７０６６５０４ Ｅｆｆｅｃｔｓ ｏｆ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｏｎ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｎｄ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ＺｎＯ∶Ａｌ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍｓ ， １ １ １ ２ １ １ ， ， ， ， Ｘｕ Ｗｅｉ Ｙｕ Ｊｕｎ Ｗａｎｇ Ｘｉａｏｊｉｎｇ Ｙｕａｎ Ｊｕｎｍｉｎｇ Ｌｅｉ Ｑｉｎｇｓｏｎｇ （ ， ， １Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｈｕａｚｈｏｎｇ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ， ； ， ， ）