薄膜物理第7讲.pptVIP

第七章 薄膜材料及其应用 第一节 耐磨及表面防护涂层 一、硬质涂层 二、热防护涂层 三、防腐涂层 一、硬质涂层 二、热防护涂层 提高高温合金使用温度，防止其在高温氧化环境中产生性能退化的一个有效途径是对其加以热防护涂层。 三、防腐涂层 第二节 金刚石薄膜 一、金刚石薄膜的制备技术 二、金刚石薄膜的应用 一、金刚石薄膜的制备技术 二、金刚石薄膜的应用 第三节 集成电路中的薄膜材料 一、集成电路制造技术 二、发光二极管和异质结激光器 三、超晶格与量子阱结构 一、集成电路制造技术 二、发光二极管和异质结激光器 三、超晶格与量子阱结构 第四节 集成光学器件 一、集成光波导和光学器件 二、集成光学器件材料 一、集成光波导和光学器件 二、集成光学器件材料 第五节 磁记录薄膜和光存储薄膜 一、简 介 二、复合磁头和薄膜磁头 三、磁记录介质薄膜及其制造技术 四、光存储介质概况 五、磁光存储（Magneto-Optical Recording, MO） 六、相变光存储（Phase Change Optical Recording） 一、简 介 二、复合磁头和薄膜磁头 三、磁记录介质薄膜及其制造技术 第六节 新型光电发射薄膜Ag-BaO 有机电致发光薄膜OLED：平板显示 氧化物半导体敏感薄膜 SnO2, TiO2, Fe3O4： 高灵敏度气体传感器 力敏、磁敏金属薄膜FeSiB：微压力、震动、力矩、速度、加速度传感器 光催化薄膜TiO2 ：环保材料 光学薄膜：智能建筑材料，装饰照明 宽禁带半导体薄膜GaN，ZnO，SiC：短波长器件、大功率CMOS 器件 超导薄膜 YBCO, MgB 本 章 作 业 1、举例说明薄膜材料在现代科技发展中的重要地位。 为了满足上述性能要求，在制备Fe-Co-Cr平行磁记录薄膜介质时，可以采用以一定角度倾斜蒸发沉积的方法获得适当的薄膜柱状晶生长方向，或在薄膜平面内施加一定强度的磁场以使其产生的感生各向异性。 目前已经被发现具有垂直磁各向异性的薄膜材料有CoCr、CoCrX(X=Rh、Pd、Ta)合金薄膜等，其制备方法包括了各种的PVD技术。 对于平行记录方式，要求材料的磁化矢量均是沿着薄膜平面排列的，即要求薄膜具有平面内的磁各向异性。 并不是每种材料都可以具有垂直磁各向异性。这是因为，当磁化矢量的方向是垂直于薄膜平面时，磁化矢量本身将受到其自身造成的磁场的强烈作用，它力图使磁化矢量转到平面内来。 硬磁盘： 衬底：Al-Mg合金（要求：极低的表面粗糙度） 1、为了提高衬底的硬度，在衬底上首先要采用化学镀的方法沉积上一层具有适当硬度的NiP合金层。这一镀层其结构是非晶态的，不具有铁磁性。（硬质底层） 2、对衬底进行进一步的抛光后，采用PVD方法在其上沉积上具有适当磁各向异性、厚度为几百纳米的磁性薄膜。为了使薄膜具备所需的平面内各向异性，可以采取倾斜蒸发沉积的方法。（磁性层） 3、最后，为了保护磁性薄膜免受磁头不断冲击可能造成的损害，还需要在薄膜表面沉积一层硬度较高的非晶碳（类金刚石）组成的硬质薄膜。（保护层） 磁记录介质的制造需要解决各种各样的材料问题（如衬底材料，衬底涂层以及表面保护涂层等。） 软磁盘或磁带： 衬底：聚酯（PET）材料 采用连续蒸发倾斜沉积的方法制造。这时，由电子束蒸发出来的CoNi合金蒸气将从特定的角度入射并沉积于衬底之上。合适的衬底运动方向将导致在衬底上形成一定倾斜度的柱状晶核心，从而改善沉积后薄膜的矫顽力和磁化回线的方形度。 四、光存储介质概况 1、只读式光盘 以CD为代表的只读型光盘的工作原理很简单，它是靠探测激光在凹凸不平的介质表面反射回来的光的强度的变化来读出信息的。 制作只读光盘的工艺路线如图所示。将光刻好的正像盘作为衬底，在其上喷镀上金属就制成了负像盘，然后，以后者作为模具注入聚合物溶液并使之在紫外线照射下聚合固化，最后喷镀上一层金属反射层，就制成了录有信息的光盘。 2、一次写入式光盘 这类光盘可以依用户的需要一次写入所要记录的信息，并可以反复读取，但不能对信息进行改写。写入信息的方式可以有各种方式，如图所示，有烧蚀型、发泡型、熔融型、合金化型、相变型。 3、可擦重写型光盘 这种光盘上的信息可以被重新改写，但是改写的过程需要两次操作才能完成，即先要将原来的信息擦除一次，然后再将新的信息用激光写入。 4、直接重写型光盘 这类光盘属于不仅可以改写信息，而且可将信息的擦除和写入操作同时完成的光盘。 五、磁光存储（Magneto-Optical Recording,MO） 磁光存储技术所依赖的是磁性