八羟基喹啉镉薄膜制备及其光学特性 Preparation and Optical Properties of 8-Hydroxylquinline Cadmium Thin Film.pdfVIP

第28卷第7期 半导体学报 V01．28NO．7 2007年7月 CHINESEJOURNALOFSEMICoNDUCToRS July，2007 八羟基喹啉镉薄膜制备及其光学特性* 路飞平 彭应全’ 宋长安 邢宏伟 李训栓 杨青森 (兰州大学物理科学与技术学院，兰州730000) 摘要：用真空蒸镀方法，在玻璃衬底上制备了衬底温度不同的八羟基喹啉镉薄膜．XRD分析表明，八羟基喹啉镉 薄膜呈多晶态，且衬底温度越高，衍射峰越强，薄膜的结晶性能逐渐变好，结晶晶粒尺度也越大．AFM研究表明，衬 底温度升高，薄膜表面形貌越均匀有序，质量变好．MM-16相调制型椭圆偏振光谱仪研究发现，衬底温度升高导致 反蒸发增强，薄膜生长速率减小，随着入射光波长的增加，薄膜的折射率和消光系数逐渐减小．随着衬底温度升高， 因薄膜晶粒尺度增大，折射率和消光系数也增大；并给出了它们的变化范围． 关键字：八羟基喹啉镉；薄膜；折射率；消光系数 PACC：7280L；7865T；8115