proe特征镜像和阵列.doc

阵列讲解 特征的镜像： 镜像功能是实现对称特征的创建。可以较快的将简单的零件镜像成为较复杂的零件，是对称零件最快速创建的方法。（当然可以用阵列或复制，这里只作介绍）。 2.普通的镜像是很简单的： ａ、确定需要镜像的元素，ｂ、然后选择要以镜像的面作为对称基准， ｃ、最后确定就ok啦！ 3.无约束的镜像也容易： 它的不同就是在普通镜像的第二步b后不要急于按确定键，而是在“参照”的右旁“选项”里把“复制为从属项”的勾勾去掉，再按确定键就ok啦！他们就不再存在父子关系。 4.复杂的镜像也就是在确定后再在从属的关系上进行解除关系的方法。（目前只作介绍） 特征的移动：（平移移动、旋转移动）。 PROE特征的移动实质是对特征进行复制。 （通过“编辑复制”）和“编辑”“选择性粘贴”“对副本应用移动/旋转变换”。 平移步骤：选中“对副本应用移动/旋转变换”后确定，在操作区域的左下角处点击“平移特征”按钮（非旋转按钮），1.选择一条边2.（确定参照方向）3.输入想要的距离4.确定就ok啦！ 1. 旋转步骤：与平移步骤有点点不同，就是在操作的左下角这时候应该选择的是“旋转特征”，然后与平移移动的第一步想要的“一条边”改为点击“一轴”，再在实体上点击为旋转中心的轴，然后在操作面的下面输入旋转角度，最后按确定就ok啦！ 特征的阵列： 阵列是实现多个相同特征的快速创建方法。 阵列的特点：A阵列是参数化的。（为什么是参数化的，我解释一下：在阵列的时候要按设计的要求输入相应的相邻间距和阵列尺寸来实现阵列的排布）。B阵列可以对单个特征进行阵列，也可以对多个特征进行阵列。C阵列中如果改变特征源特征时，系统会更新整个阵列（这原因是父子关系影响）。 注意啦：复制特征操作一次只能复制一个特征，而阵列可以一次进行多个特征。 阵列的类型有6种： A尺寸阵列 b方向阵列 c轴向阵列 d表阵列 e参照阵列 f填充阵列。 尺寸阵列的“选取项目”就是尺寸（分为两个方向） ，如果要改变实体与实体之间的距离，可以在操作板的左下角点击“尺寸”里面，可以改变间距。 可变阵列：可变阵列就是改变实体的形状大小，他也属于尺寸阵列，不过在实现可变阵列之前就是要在尺寸阵列的“尺寸”里面方向一增量区域中单击一下使之区域变黄然后一定要按住ctrl键去选择实体上需要改变的变量。这样就可以达到目的啦。 方向阵列：主要选择的参照是边、线，他比尺寸阵列更简单。（也可以是两个或一个方向） 轴阵列选取的项目就是轴为中心基准了。 轴阵列的可变阵列：轴阵列的可变阵列就是在轴阵列的基础之上的“尺寸”命令里，点击第一方向的增量区域使之显黄色，再按住ctrl键在实体上选择要改变的设计要求。 如果有更多设计要求可在第二方向上进行更改。如此类推！ 填充阵列：填充阵列就是在一个区域或范围内排布满所需要的特征。 填充步骤：1.选择实体 2.点击阵列 3.点选填充 4.没有草绘的话就选择参照 选择定义、选择草绘 5.然后再草绘区域内画一个范围区域确定，所有的实体就布满在这个区域内。 其中填充的方式很多：圆、菱形、正方形、螺旋形等。 曲线阵列：把曲线的比例看成1。 首先单击曲线（圆线） 基础点工具 直接确定 阵列 尺寸 增量 点击刚刚创建的新起点 增量为0.1 那么个数就为10个 确定 打勾 拉伸 注意：参照点只能选择第一点为基准 在曲线上拉伸一个实体 确定 确定 阵列 确定 完成。 表阵列：