CMP中真空供应系统的设计 Design on the Vacuum Provide System for CMP.pdfVIP

团■a —— —— 茎茎塑鱼鱼 CMP中真空供应系统的设计 周 国安 (中国电子科技集团公司第四十五研 究所，北京 101601) 摘 要 ：针对 CMP在低生产量及 实验 室条件下对真 空供应 系统的特别要求：(1)持续稳定的真 空供应：(2)能够及 时处理倒流液体 ；(3)真空电机不 易长时间连续工作的要求 ，从气动性 、硬件 电 路和软件流程图进行全面设计 ：增加独立的真空槽体和排液槽体 ，在正常运行情况下二者 串联增 加真空供应容积 ，并且 自主收集倒流废液 ，而排液 中依然可保证真空稳定供应 ；增加 SMC真空开 关及相应 的控制系统 ．保证真空处于最低和最高设置 负压之 间，同时实现真空电机 间歇式工作。 从根本上解决 了以上问题 ，且控制系统简洁可靠．满足生产需要。 关键词 ：化学机械平坦化 ；真空系统；电磁 阀；继 电器；真空槽体 中图分类号 ：TN305．2 文献标识码 ：A 文章编号 ：1004．4507(2011)08-0009．04 DesignOiltheVacuum ProvideSystem forCM P ZHOU Guoan (The45thResearchInstituteofCETC，Beijing101601，China) Abstract：Thepapergivesawholedesign bypneumatic、hardwareand softwareaspectaccordingto thespecialrequirementofvacuum system forlow throughputandLabwhichis：(1)Sustainedand stablevacuumproviding； (2)Dealingwiththebackflowfluidontime； (3)Vacuummotorcannot workofrlongtimewithoutbreak．Toincreaseseparatevacuum tankanddraintankinmydesing ，the bothtankwillbeconnectedtogetherinordertomakethevolumebiggerunderthenormalcondition， Meanwhilethedrain tank can collectthebackflow fluid．Thesystem can keep providevacuum continuallyeventhouhg duringdrainingthefluidperiod；ToincreasetheSMCswitchandcontrolling system ，which can confimr toprovide thevacuum between themax andmin settingvalue，and achieve thevacuum motorby intemr ission working style．The desing solvestheproblemsabove thoroughly，besidesthecontrolsystem issimpleandreliable，allofthesecanmeettheproduction． Keywords：CMP；Vacuum system ；Solenoid；Relay；Vacuum Tank 化 学机械抛光 (chemicalmechanicalpolish， 严格的工艺控制、高质量的表面外形及平面度[。 CMP)技术是制备晶圆的关键步骤，它能满足晶圆 但是对于CMP机台配套的供应系统却研究甚少， 收稿 日期 ：2011-06．15 皿I舅圆 (总第199期)① 万方数据 CMP