CMP系统真空供给系统设计 The Design of Vacuum Supply Pump for the CMP System.pdfVIP

团■口 蠢 垦 鱼鱼 鱼鱼 CMP系统真空供给系统设计 李 伟，高文泉，柳 滨，陈 波 (北京中电科 电子装备有限公司，北京 100176) 摘 要 ：研制 了一套化学机械抛光机 (CMP)专用的真空供给系统 ，主要 由水环式真空泵、真空泵 箱体 、真空储气罐和水箱f汽水分离器)组成及控制模块组成 。设计 了水箱供水控制模块、水箱温 度 自动控制模块 ．通过控制水箱水温进而控制真空泵工作液的温度 ，保证真空度要求 ，同时也达 到节约用水、降低能耗的要求。采用有 限元分析软件 ANSYSWorkbench对真空供给系统机架进 行 了模态分析 。研究机架的振型、固有频率，从而在结构设计上避免共振。 关键词 ：化学机械抛光 ；真空供给系统 ；温度 自动控制；ANSYSWorkbench；模态分析 中图分类号：TN948．43 文献标识码 ：B 文章编号：1004．4507(2012)03．0045．05 TheDesignofVacuum SupplyPumpfortheCMP System LiWei，GaoWenquan，LiuBin，ChenBo (BeijingElectronicEquipmentLtd．，Beijing100176，China) Abstract：Developed a specialvacuum supply system used forchemicalmechanicalpolishing， includingliquidringvacuum pump，vacuum pump chamber，vacuum storagetank，andwatertank (steam ／gas—waterseparator)andsomecontrolmodules．Designthewatertanksupplycontrolmodule， theautomatic temperature controlmodule，controlvacuum pump working liquid temperautreby meansofthecontrolwatertankwatertemperautre，ensurehtevacuuindegreerequirements，butalso to savewater，reducetheenergyconsumptiondemand．With dynamicalmodalanalysisofvacuum pmu pchamberrackbyuseofthefiniteelementanalysissoftwareANSYSW orkbench，wecangetthe inherentfrequencyandvibrationmodel，whichcanavoidsympatheticvibration． Keywords：CMP；Vacuum supplysystem；Automatictemperautrecontrol；ANSYSW orkbench；Modal analysis 化学机械抛光 (ChemicalMechanicalPolish， 的关键步骤，广泛应用于集成电路 (IC)制造业中， CMP)技术是一种对半导体材料或是其它类型材 它能满足晶圆严格的工艺控制、高质量的表面外 料的衬底进行平坦化或抛光的方法，是制备晶圆 形及平面度 [11。 收稿 日期 ：2012．01．13 课题来源：国家02重大专项(2009ZX02011-005A1 匝墨■皿 (总第206期)( 万方数据 材料制备与设备 电 子 工 业 专 用 设 备 - 图 1为 CMP系统真空气路控制