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溅射气氛中O_2_Ar比及热处理对直流反应_省略_制备玻璃基TiO_2薄膜结构与.pdf

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溅射气氛中O_2_Ar比及热处理对直流反应_省略_制备玻璃基TiO_2薄膜结构与

第 卷 第 期 !#$ %’ ($ ) % ) 稀有金属材料与工程 --% 年 ) 月 ./.0 *01/2 */10.3/24 /(5 0(63(00.3(6 *+, --% 溅射气氛中C L /K 比及热处理对直流反应磁控溅射 法制备玻璃基1BC 薄膜结构与亲水性的影响 8 8 8 赵青南 ,刘保顺 ,赵修建 , /$ S$ 4#OBXHF 9 8$ 武汉理工大学,湖北 武汉@%--;- 9 $ CKOXN 4F+FO YNBZOKGBF,’ QKZ+##BG C. =;%% 8’ Y4/ 摘 要 在工作气压为 的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比9 ,在预先镀 左 [ -$ -U+ C L /K[ -$ 8-’ -$ -’ -$ %- 8-NR ( ) 右4BC 的普通玻璃基片上用直流 5$ Q$ 磁控溅射法制备了%--NR 左右的1BC 薄膜试样。离线在)--W 、氧气氛下对试样 ( ) ( 热处理 。用 射线光电子能谱 和 射线衍射仪 分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物 H \ \U4 \ \.5 相组成,用接触角分析仪测试了试样在紫外光9 Y! 照射后的水润湿角。 关键词:玻璃基1BC 薄膜;亲水性;直流反应磁控溅射;氧气和氩气流量比 中图法分类号:C?@; 文献标示码:/ 文章编号:8--78)\ 9 --% -)7-%%=7-) 1BC 薄膜在紫外线下的高的亲水性,对镀1BC 膜 化学计量比高并呈锐钛矿结构。 D 8 E 玻璃的光催化自洁净和防雾等功能有重要的影响 。 本文根据实验结果主要讨论直流反应磁控溅射 制备 膜的方法有很多,如:溶胶 凝胶法、溅射法 法镀 薄膜时,溅射气氛中氧气与氩气的比例及热 1BC 7 1BC D ,E 等 % ,其中直流磁控溅射法的应用最为广泛。磁控溅 处理对薄膜表面组成、离子状态、结晶相和亲水性的 射法镀制1BC

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