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多弧离子镀技术及其应用姜雪峰
2006年 10月 重庆大学学报(自然科学版) Oc.t 2006
第 29卷第 10期 Journal of Chongqing University(NɑturɑlScience Edition) ol. 29 No. 10
:1000 -582X(2006)10 -0055 -03
*
姜 雪峰,刘 清才,王 海 波
(重庆大学 机械传动国家重点实 室, 重庆 400030)
:多弧离子镀技术是离子镀技术的 一种改进方法, 它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂
层技术. 由于多弧离子镀技术具有镀膜速度高, 膜层的致密度大, 膜的附着力好等特点,使多弧离子镀镀
层在工具、模具的超硬镀膜、装饰镀膜等领域的应用越来越广泛,并将占据越来越重要的地位.介绍了多
弧离子镀技术的原理、特点,并在总结和归纳了以往大量实 研究及国内外文献的基础上, 分析了多弧
离子镀技术的工艺发展及其在各 个领域的应用,为今后多弧离子镀技术的研究与应用提供了有利借鉴.
:镀膜;多弧离子镀;氮化钛
:TG 174. 444 :A
.
20 60. ,
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, , 80, (
Mult-iArc. ),,
,,
1 多弧离子镀的原理
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1 ~100 μm;, 10 ~ 1
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10 A /cm . , 2 多弧离子镀的特点
,,
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. 60%~90% 1),
* :2006- 06 - 11
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:(1974 - ), , , , , .
56 重庆大学学报(自然科学版) 2006年
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4), .
5), , .
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,
3 多弧离子镀工艺的发展
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