行星夹具膜厚均匀性计算.pdf

　第 12 卷　第 3 期 强 激 光 与 粒 子 束 . 12, . 3　 V o l N o 　2000 年 6 月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S Jun. , 2000　 ( ) 文章编号: 1001- 4322 2000 03- 0277- 04 行星夹具膜厚均匀性计算 潘栋梁, 熊胜明, 张云洞, 王任华 ( 中科院光电技术研究所, 成都双流 350 信箱, 610209) 　　摘　要: 　建立了平板型和球面型行星夹具膜厚均匀性的计算模型。利用根据这些模型编 制的计算程序计算了基板表面膜层厚度分布与蒸发源位置、蒸发源发射特性、夹具高度、行星 轨半径以及行星夹具的倾角之间的关系。并得到了一组典型结果。 　　关键词: 　薄膜; 均匀性; 计算 　　中图分类号: TH 74　　　　文献标识码:A 　　在镀制光学膜系的时候, 膜厚均匀性问题是一个重要问题。膜厚的均匀性不好, 将严重影响膜系的 特性。膜厚均匀性是指膜厚随基板表面位置的变化而变化的情况, 它与蒸发源与基板之间的配置以及蒸 发源的蒸汽发射特性有关。有文献对平板、球面夹具以及旋转平板、球面夹具等情况的膜厚分布作了分 析[ 1, 2 ] , 但对于行星夹具情况下的膜厚分布的计算却没有介绍。本文建立了计算行星夹具膜厚分布的数 学模型, 根据该模型计算得到了一组典型的结果。 1　行星夹具的膜厚分布的分析 　　基于蒸发分子与蒸发分子、蒸发分子与残余气体分子之间没有碰撞; 蒸发分子到达基板表面后全部 淀积成紧密的薄膜, 其密度和大块材料相同; 蒸发源的蒸汽发射特性不随时间变化这三个假定, 可以对 膜厚分布进行理论计算。基板上某一点p 的膜厚可以表示为 n co s co s t = C ( 1) p 2 r 其中 是常数; 是该点到蒸发源的距离; 是蒸发源表面法线与 点和蒸发源连线的夹角, n 用来 C r p co s 描述蒸发源的蒸汽发射特性[ 3, 4 ]; 是p 点法线与p 点和蒸发源连线的夹角。 ( ) 　　由 1 式可知, 影响膜层均匀性的因素主要有两点: 基板上某点膜厚与它到蒸发源的距离平方成反 比; 膜厚与淀积角的余弦成正比。其作用结果使得镜片边缘膜层比中心处薄。而实际使用时, 光线入射 角增加会使中心波长向短波移动, 为了满足入射角的影响, 要求中心薄边缘厚, 这与膜层的厚度分布是 相反的。采用行星夹具进行镀膜, 可以解决这个问题。图 1 和图 2 就是两种行星夹具配置方式。在这种 夹具中, 镀件不仅绕夹具的中心轴公转, 而且以更大的转速各自绕其本身的中心轴自转, 夹具每转一周, 各镀件则旋转数周。为避免周期性的不均匀性, 自转与公转的转速比应避开整数倍。采用行星夹具可以 满足