VO 2 薄膜光致相变及其光学性能研究.PPT

夏晓旭 VO2薄膜光致相变及其 光学性能研究 研究内容 国内外研究进展 工作计划 镀VO2膜 工作气压 衬底 镀V膜 氮气退火 氧气退火 溅射功率 膜厚 氩氧比 退火条件 镀VO2-x膜 氧气退火 VO2薄膜的光学特性 吸收 开关速度 反射率 透过率 紫外 可见光 红外 太赫兹 热致相变 光致相变 10nm 400nm 1mm 350nm 770nm 紫外 可见 红外 太赫兹 750nm 3mm 30μm 3μm 25μm 近红外 中红外 远红外 检测光有更宽的频段 激励光有更宽的频段 兰州大学， Lambda 900紫外-可见-近红外光谱仪, 250-2500nm 二氧化硅基底，掺杂Al和Ti，改变溅射功率，结果表明，薄膜在500nm处透过率最大，掺杂Ti的膜用5W溅射功率比3W时在1500nm处透射率减少量最大，为40%。 镀V2O5膜，二氧化硅基底，薄膜在500nm处透过率最大，约为45% 电子科技大学， 日本岛津公司的UV1700紫外可见分光光度计, 380-1100nm 玻璃基底，做快速退火，在可见光波段吸收率约为45%，在紫外波段吸收率更高 镀V2O5膜，玻璃基底，改变衬底温度，结果表明，可见光波段和近红外波段透过率在约为70%，透过率随衬底温度升高而降低，但改变不明显。 镀V2O5膜，改变氧分压，结果表明，薄膜在500nm处透过率最大，约为55%，透过率随氧分压增大而增大。 长春理工大学， 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR spectrometer美国BIORAD公司)，700-2500nm 蓝宝石衬底上溅射所得的VO2膜在5um波长处透过率的减小量△T最大，为70%， 玻璃衬底上溅射所得的VO2膜2.5um波长处透过率的减小量△T最大，为64.2%， 外加数字控温系统，对玻璃衬底用1319nm脉冲激光进行光激励，产生热致相变，透过率从48%变为28% 天津大学， Nexus型傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)，1-10μm 太赫兹时域频谱系统(THz-TDS) 用钛宝石飞秒激光器产生λ=800nm激励光，分别在单晶硅和 SiO2衬底上制备了氧化钒薄膜，硅基氧化钒薄膜在太赫兹波段具有良好的开关特性，具有明显的频率响应，且具有较宽的工作带宽，而SiO2衬底表现不明显 T. L. Cocker等人用蓝宝石基底镀VO2膜，膜厚130nm，用800nm脉冲激光激励薄膜产生光致相变，在真空室中，用液氦做冷却，用太赫兹时域频谱（THz-TDS）做光学性能测试 M. Maaza等人用石英玻璃基底，用钇铝石榴石激光器产生λ=1064 nm的激光激发VO2薄膜产生相变，测定不同膜厚的透过率， 膜厚为64nm；109nm； 400nm；1204 nm； S. Lysenko等人用波长λ=800nm的光激励产生相变，弛豫时间130fs，频率200kHz，功率wp=30 mJ/cm2 ， 薄膜厚度50nm，检测光频率λ=632.8nm 衬底选用蓝宝石，若效果不理想，再考虑是否更换为硅或玻璃 退火时间选定10s；20； 30s； 40s； 50s； 60s； 采用直接镀V膜再退火氧化的方式，各项参数参考实验室以前的数据，暂定工作气压2Pa，溅射功率210W，基底温度为室温 镀膜时间选定6min；8min；10min；12min；14min； 做正交试验 选用太赫兹时域频谱（THz-TDS）对薄膜进行太赫兹波段的光致相变光学性能测试，尝试改变激励光频率域弛豫时间 选用傅立叶变换红外光谱仪（FTIR）对薄膜进行红外波段的光致相变光学性能测试 先不退火，直接进行测试，若效果不理想则进行快速退火，设定退火条件。 用XPS进行对薄膜进行组分分析，测定V4+ ， V3+ ， V5+ 含量，尝试根据不同价态的含量来改变激励光的参数；以及用XRD，SEM对薄膜进行分析