干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响 escs influence to production in poly etch and methods to improve escs lifetime.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响 escs influence to production in poly etch and methods to improve escs lifetime

第9卷，第3期电子与封装总第71期 V01．9．N。．3 2009年3月 ELECTRONICSPACKAGING ：’砖．，，7啼，：j蔓：麓，』I遘，t7葛一’霹、囊。7：《干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响董家伟1,2黄其煜1 (1．上海交通大学微电子学院，上海200240；2．中芯国际(上海)集成电路制造有限公司，上海201203) 摘要：在VLSI制造过程中，静电吸盘(ESC)以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中。文章以LAM 了在其使用过程中各参数补偿电压、夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响，并提出了对生产过程的监控参数，以达到及时发现问题．解决问题的目的。关键词：静电吸盘；双极性；夹持电压；偏压补偿；冷却气体中图分类号：TN306 文献标识码：A ESC’SInfluencetoProductionin EtchandMethodsto ESC’SLifetime Poly Improve DONGJia-wei，HUANG Qi-yu 200240，China； (1-MicroelectronicJiaotongUniversity，Shanghai College，Shanghai 2．Semiconductor 201203，China) Manufacturing VLSI usedin forits Abstract：Inthemodem havebeen ETCH，CVD widely processgood manufacturing，ESC heat lowdefect a ruleinthe control，and process transfer，uniformity production．ESCplaysveryimportant onLAMTCP9400on mass thathow chamber etcher system．Based polysiliconproduction，thispaperanalyses tomonitorthe the influencesthe underdifferent how settings，and problems bipolar-ESC production parameter oftheESC