混合磨料对LED用蓝宝石衬底CMP质量的影响.PDFVIP

下载本文档

16
0
约2.26万字
约 3页
2017-08-14 发布于天津
举报
版权申诉

混合磨料对LED用蓝宝石衬底CMP质量的影响.PDF

1、本文档共3页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

混合磨料对LED用蓝宝石衬底CMP质量的影响

年增刊 ( )卷 84 2012 Ⅰ 43 混合磨料对 LED用蓝宝石衬底CMP质量的影响∗ , , , , 于江勇刘玉岭牛新环李英的夏显召 ( , ) 河北工业大学微电子研究所天津 300130 - : , 摘要分析了混合磨料在蓝宝石衬底化学机械抛碱性条件下与碱作用生成且晶向　　 AlO AlO 2 3 2 ( ) , [ ] 光 CMP过程中的作用机理并对比了SiO2 水溶胶 0001的蓝宝石衬底表面会持续形成厚度为 1nm左 , , 磨料和与混合磨料对蓝宝石衬底去除速右的水合层此水合层成份为水铝石化学式 SiO AlO 2 2 3 。 , · , , 。率的影响研究表明在主磨料 SiO 水溶胶中加入浓为AlO nH O 莫氏硬度小于蓝宝石约为 7 2 2 3 2 度为 / 同粒径纳米级的可以使过是一个化学作用与机械作用相互加强和促 20mLL AlO CMP CMP 2 3 - , , , 程中的化学作用与机械作用达到相互平衡使抛光去进的过程其化学作用生成的 AlO2 易溶于水容易。。 , , 除速率得到明显提高在距抛光终点 5~10min通过去除 AlSiO 难溶于水如果机械作用过低此产物 2 3 , , 调整工艺参数与抛光液配比使表面粗糙度由2.32nm 难以移除而水合层的存在会阻断抛光液与衬底的再。 , 降至0.236nm 接触这两种产物如果不及时移除将影响到