Ni包覆AlO粉体的RCVD法制备及机理研究.PDF

第２５卷　 第４期 材　 料　 科　 学　 与　 工　 艺 Ｖｏｌ２５ Ｎｏ４ 　 　 ２０ １７年８月 ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＆ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ Ａｕｇ． ２０１７ 　 　 　 　 　 　 ｊ．ｉｓｓｎ － ＤＯＩ：１０．１１９５１／ ．１００５ ０２９９ Ｎｉ包覆Ａｌ Ｏ 粉体的ＲＣＶＤ法制备及机理研究 ２ ３ 葛梦妮，李亚辉，周华思，郭珈旭，张建峰 （河海大学 力学与材料学院，南京 ２１００９８） 摘　 要：金属Ｎｉ包覆于陶瓷粉体的表面，可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质．本文采用旋转化学气相沉积 法（ＲＣＶＤ），利用二茂镍（ＮｉＣｐ ）前驱体的热分解，借助载体氢气对反应的催化促进作用，在Ａｌ Ｏ 粉体表面包覆了均匀分 ２ ２ ３ 散的Ｎｉ纳米粒子，并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律．研究表明，在包覆温度为 －６ × ４５０～５５０ ℃、前驱体二茂镍（ＮｉＣｐ ）供给速率为（０．６～２．０） １０ ｋｇ／ ｓ条件下，通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和 ２ 前驱体二茂镍（ＮｉＣｐ ）供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控．结合实验结果，分析了载体氢气对 ２ 二茂镍反应的催化促进作用，阐述了旋转化学气相沉积条件下Ｎｉ纳米粒子在Ａｌ Ｏ 粉体表面均匀包覆的过程与机制．通过 ２ ３ 调控包覆温度和原料供应速率，可以影响前驱体二茂镍的分解行为，从而调控镍纳米粒子在Ａｌ Ｏ 粉体表面的包覆状态． ２ ３ 关键词：Ａｌ Ｏ 粉体；镍纳米粒子；粉体包覆；旋转化学气相沉积法（ＲＣＶＤ）；包覆机理；包覆层 ２ ３ － － － 中图分类号：ＴＢ３３３ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００５ ０２９９（２０１７）０４ ００７８ ０６ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｍｅｃｈａｎｉｓｍ ｏｆ Ｎｉ ｎａｎｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ ｏｎ Ａｌ Ｏ ｂｙ ｒｏｔａｔｉｎｇ ２ ３ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ＧＥ Ｍｅｎｇｎｉ，ＬＩ Ｙａｈｕｉ，ＺＨＯＵ Ｈｕａｓｉ，ＧＵＯＪｉａｘ