.准分子激光直接刻蚀单晶硅研究.pdfVIP

维普资讯 2000年8月 西 北 工 业 大 学 学 报 AUR+ 2000 第l8卷第3期 JournalofNorthwesternPolytechnicalUniversity Vo1．18No．3 一 {L7 准分子激光直接刻 单晶硅研究 ， 7 苑伟政，皇 李晓莹，王丽戈 ／ 摘 要：与传统的投影曝光微知加工方法相比，激光直写具有高柔性、低成本和胜任三雄微型蛄构 加工的优点。采用非稳腔的聚焦准分子教光 (KrF，=248rim)对单晶硅材料进行直接刘蚀 ，从微蛄 构刘蚀的形状足寸及加工过程的热效应等方面研究了准分子激光直接刘蚀单晶硅的加工特性。重 点考察了加工中的热效应，研究表明准分子教光与被加工材料的相互作用井非完全基于非热机理， 加工过程赤有热作用参与，进一步提出了准分子激光刘蚀加工的 “热影响区”概念用 评价和解释 准分子激光的 “冷加I 特性。同时现察分析 了脉冲激光时硅基底造成的破坏现象，讨论 了冲击作用 的成 因 单品硅 关 羹 词：准分子激光，直接刺蚀，冷“加工特l生·， !垦，芝圭苎堑 中圈分类号：TH16 文献标识码：A 文章编号 1000—2758(2000)03—0491．05 锻结构加工中的直接刻蚀 (directetching)方法 属于直写 (directwriting)加工。直写指不引入 图形 1 准分子激光直接刻蚀实验 转 印过程直接在材料上加工得到微型结构。相对于 应用曝光原理的其它徽细加工方法 (如光刻制版术、 1．1 实验装置 UGA或准UGA技术等)，直写具有简捷、灵活 、成 实验装置及加工光路如图1所示 。采用 Lamhda 本低和适应立体微结构制作的显著优势，在微结构 Physik公司的Compex150型准分子激光器 ；以 件加工领域具有 巨大发展潜力 ]。直写加工方式包 括高能束直接捌蚀或气体辅助刻蚀、激光诱导化学 气相沉积 (LCVD)等I高能束直接刻蚀在以去除材 料得到徽实体结构方面，因简便、高效而拥有广阔的 应用前景。作为新型高能束，准分子激光波长极短， 均分布于紫外波段(使其可能达到更高的分辨率、高 光子髓量并对应较大的材料吸收率)，脉宽窄而发散 角极小。选些优异特性使其近年来在檄细加工领域 倍受注 目n ]。硅材料的硬度和杨氏模量高，抗腐蚀 性好，具有光、电、磁、力台一的传感特性等，使其成 为最重要的徽机械材料[]‘。鉴于硅材料在微机械镀 l后齄羹 2放电室 3前齄羹 域的重要性和准分子激光及直接刻蚀加工的巨大应 4反射羹 5瞎量但 6鼍 遗t 用潜力，对准分子激光直接刻蚀硅材料展开研究显 7靶子 8靶托与电机 得尤其必要。 9隔最早台 lO堆分子激光嚣 图l 实验装置 啦穑 日期 ：l998—09一l7 基盒项 目：陕西省 自然科学基金项 目(96DO4) 作者筒介：马炳和(1972一)，男．河北省辛集市人，西北工业大学讲师，在职博士生，主要从事微机毓与徽细加工技术的 研究 。