在光阻材料中过滤器吸附机制的作用 the filter adsorption mechanism in photoresist materials.pdfVIP

在光阻材料中过滤器吸附机制的作用 the filter adsorption mechanism in photoresist materials.pdf

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在光阻材料中过滤器吸附机制的作用 the filter adsorption mechanism in photoresist materials

堑 鱼茎塑鱼 蚕 团 在光阻材料中过滤器吸附机制的作用 TetsuKohyama (ENTEGRIS,INC.,BillericaMA01821,USA) 摘 要:近来尼龙过滤被广泛用于光刻工艺流程来改善 良率,因为许多IC和光阻制造商有实验 性证据表 明尼龙滤膜能吸附杂质。然而,尼龙滤膜降低缺陷的机制 尚不清楚。通过致力于特定的 光阻成分来研究不 同的缺陷发生机制是十分有用的。 利用表面改性和不同的光阻成分进行 了各种吸 附试验来测量尼龙滤膜的耐受性 ,包括表面 张力,光酸发生剂和光酸抑制剂。最后 ,研究希望通过致力于如何最佳贯彻尼龙过滤策略来确定 最有效的方法提高良率 关键词 :光阻材料 ;过滤器 ;吸附试验 ;尼龙滤膜耐受性 中图分类号:TN108.5 文献标识码 :B 文章编号:1004-4507(2012)11—0022-06 TheFilterAdsorption M echanism inPhotoresistM aterials TetsuKohyama (ENTEGRIS,INC.,BillericaMA01821,USA) Abstract:Recentlynylon filtershavebeen widely implemented in photolithography processesto improveyieldsbecausemanyICandphotoresistmanufacturershaveempiricalevidenceindicatingthat thenylonmembranecanadsorb impurities.However,themechanism bywhichthenylonmembrane reducesdefectsisunclear.Itisusefultostudydifferentde~ct—causingmechanismsbyfocusingonthe particularcomponentsofphoto-resists. Inthispapervariousadsorptiontestswereperformedutilizingsurfacemodificationanddifferent photoresistcomponentsto measurethe effectofnylonmembranes on resistproperties,including surfacetension,photoacidgenerator (PAG)concentrationandquencherconcentration.Ultimately,the study hopestodeterminethemosteffectiveway to increaseyieldsby focusingonhow to best implementanylonfiltrationstrategy. Keywords:Photoresist;Filter;Adsoprtiontests;Propertiesofnylonmembranes Assemiconductormanufacutrersworktorealize on strictcontrolofparticleandmetalconcentrations shrinking feautres,increasing importance isplaced in processchemicalsthesecontaminantsultimately 收稿 日期 :2012—10—29 万方数据 团 鱼茎塑鱼 afleetyieldandreliabilit

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